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文献类型

  • 13篇中文专利

领域

  • 1篇文化科学

主题

  • 6篇温控
  • 5篇CVD设备
  • 4篇自校正调节
  • 4篇微分
  • 4篇微分控制
  • 4篇温控系统
  • 4篇半导体
  • 4篇半导体工艺
  • 4篇半导体工艺设...
  • 4篇自校正
  • 3篇时滞
  • 2篇多输出
  • 2篇真空度
  • 2篇生产环境
  • 2篇时滞系统
  • 2篇数字传感器
  • 2篇前馈
  • 2篇前馈补偿
  • 2篇脉冲
  • 2篇膜厚

机构

  • 13篇北京七星华创...

作者

  • 13篇王峰
  • 4篇刘晨曦
  • 3篇张芳
  • 2篇孙少东
  • 2篇王健
  • 2篇张乾
  • 2篇邰晶
  • 2篇周峰
  • 2篇付运涛
  • 2篇张海轮
  • 2篇程朝阳

年份

  • 3篇2017
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 4篇2014
  • 1篇2013
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种具有前馈补偿的半导体工艺设备的温控方法
一种具有前馈补偿的半导体工艺设备的温控方法,该半导体工艺设备中包括一个或多个控温区的温控,该方法包括根据半导体工艺预设的温控条件,构建温控的前馈补偿参考信号轨迹,即将整个温控升温阶段划分为包括高速升温阶段和标准升温阶段,...
王峰付运涛刘晨曦
文献传递
一种控制晶舟升降运动的原点定位方法
一种控制晶舟升降运动的原点定位方法,包括:控制晶舟以一设定的速度参数向下运动,当原点传感器探测到舟升降机构刚遮挡原点传感器时,立即控制晶舟减速停止;然后,控制晶舟以一较慢的速度参数启动晶舟向上运动,当检测到原点脉冲上升沿...
邰晶周峰王峰刘晨曦
一种控制晶舟升降运动的原点定位方法
一种控制晶舟升降运动的原点定位方法,包括:控制晶舟以一设定的速度参数向下运动,当原点传感器探测到舟升降机构刚遮挡原点传感器时,立即控制晶舟减速停止;然后,控制晶舟以一较慢的速度参数启动晶舟向上运动,当检测到原点脉冲上升沿...
邰晶周峰王峰刘晨曦
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一种LPCVD工艺生产环境的控制方法及其控制系统
本发明提供一种LPCVD工艺生产环境的控制方法,包括:步骤S1,所述温度传感器采集所述反应腔室内的温度信息、所述真空度传感器采集所述反应腔室内的真空度信息;步骤S2,所述反馈控制装置获得所述温度信息和真空度信息,并根据所...
王峰程朝阳张芳张海轮
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LPCVD设备的耗散非脆弱控制方法与装置
本发明公开了一种LPCVD设备的耗散非脆弱控制方法,包括:对LPCVD设备建立温度控制系统模型;对已建立的系统模型中加入非脆弱状态反馈控制器模型,建立含参耗散非脆弱控制器模型;使用二次能量供给函数对已建立的含参耗散非脆弱...
王峰张芳
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一种LPCVD工艺生产环境的控制方法及其控制系统
本发明提供一种LPCVD工艺生产环境的控制方法,包括:步骤S1,所述温度传感器采集所述反应腔室内的温度信息、所述真空度传感器采集所述反应腔室内的真空度信息;步骤S2,所述反馈控制装置获得所述温度信息和真空度信息,并根据所...
王峰程朝阳张芳张海轮
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LPCVD设备的温控时滞系统自校正方法与装置
本发明公开了一种LPCVD设备的温控时滞系统自校正方法,包括:对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;建立监...
王峰王健孙少东
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LPCVD设备的温控时滞系统自校正方法与装置
本发明公开了一种LPCVD设备的温控时滞系统自校正方法,包括:对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;建立监...
王峰王健孙少东
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LPCVD设备的温控系统自校正方法与装置
本发明公开了一种LPCVD设备的温控系统自校正方法,包括:对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;建立监督控...
王峰张乾
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LPCVD设备的温控系统自校正方法与装置
本发明公开了一种LPCVD设备的温控系统自校正方法,包括:对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;建立监督控...
王峰张乾
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共2页<12>
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