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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇INP

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇孙聂枫
  • 1篇孙同年
  • 1篇谢德良
  • 1篇刘二海
  • 1篇陈旭东
  • 1篇杨光耀

传媒

  • 1篇半导体情报

年份

  • 1篇1999
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
不同熔体配比的InP分析研究被引量:5
1999年
原位磷注入合成 L E C晶体生长法可分别合成得到富铟、近化学配比或富磷的 In P熔体, 并进行 L E C晶体生长。我们对不同配比程度的材料进行了 F T I R、 P L、变温 Hall等测试工作, 得到了一些相当有意义的结果, 对研究非掺杂半绝缘 In
孙聂枫陈旭东杨光耀赵有文谢德良刘二海刘思林孙同年
共1页<1>
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