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耿莉

作品数：6 被引量：9H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 8个电子电信
  • 4个一般工业技术
  • 3个机械工程
  • 3个电气工程
  • 1个化学工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个自动化与计算...
  • 1个理学

主题

  • 8个单晶
  • 8个抛光片
  • 8个晶片
  • 8个锗
  • 7个单晶片
  • 7个电池
  • 7个损伤层
  • 7个硅单晶
  • 7个粗糙度
  • 6个抛光
  • 6个清洗技术
  • 6个面粗糙度
  • 6个硅单晶片
  • 5个沾污
  • 5个清洗工艺
  • 5个清洗液
  • 4个翘曲度
  • 4个化学机械抛光
  • 4个机械抛光
  • 3个铌酸锂

机构

  • 8个中国电子科技...
  • 1个天津大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 3个国家科技部专...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家自然科学...

传媒

  • 8个电子工业专用...
  • 7个半导体技术
  • 5个电子工艺技术
  • 5个中国电子科学...
  • 4个节能技术
  • 4个微纳电子技术
  • 3个天津科技
  • 2个材料导报
  • 1个电源技术
  • 1个人工晶体学报
  • 1个功能材料与器...
  • 1个压电与声光
  • 1个城市建设理论...

地区

  • 7个天津市
  • 1个北京市
共 8 条 记 录，以下是 1-8
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何远东
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 翘曲度 表面粗糙度 单晶 清洗液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈亚楠
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光 清洗技术 硅抛光片 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 锗单晶 英寸 硅-硅直接键合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕菲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 抛光片 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭亚坤
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 超薄 稳定性 平坦度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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