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李春雷

作品数：13 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
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主题

  • 6个硅片
  • 6个衬底
  • 5个硅片表面
  • 4个钝化
  • 4个原子层沉积
  • 4个三氧化二铝
  • 4个前驱物
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  • 3个真空系统
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  • 3个排气
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  • 2个电偶
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  • 2个真空
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传媒

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地区

  • 9个北京市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
赵星梅
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：立式 氧化炉 炉体 硅片 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
常青
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：前驱物 硅片表面 化学吸附 温度梯度 真空系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
兰云峰
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：半导体 卡紧 自定位 瓶体 锐角
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙月峰
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：硅衬底 光电转换效率 钝化膜 铝源 三氧化二铝
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
彭文芳
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：前驱物 硅片表面 化学吸附 温度梯度 真空系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王启元
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：衬底 薄膜生长 钝化 气体加热 三氧化二铝
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈添明
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：衬底 液体表面张力 半导体集成电路 硅片 涡流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何金正
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：出气 工艺过程 开度 均匀性 自扩散
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刘东
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：硅片表面 化学吸附 温度梯度 前驱物 真空系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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