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舒福璋

作品数：8 被引量：15H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信轻工技术与工程电气工程更多>>

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关宏武
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：静电 半导体 掩模版 机械手 换版
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
段成龙
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：湿法刻蚀 CAE分析 CAE 化学清洗 全自动
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冯小强
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：太阳能 半导体 太阳能电池 单晶圆 喷头
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋伟峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：半导体 清洗工艺 RCA 晶圆 清洗机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈平
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：太阳能 氮气 半导体生产 干燥装置 多线切割机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈仲武
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：全自动 硅片 铆接机 组装机 生产线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张雅丽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：尺寸稳定性 半导体设备 静电 振动 模块化设计
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑佳晶
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：DSP 嵌入式系统 LED 遗传算法 PID控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史霄
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP CMP技术 氮化镓 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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