宋伟峰
- 作品数：8 被引量：17H指数：2
- 供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
- 相关领域：电子电信电气工程化学工程更多>>
- 超声技术在半导体行业中应用探讨
- 2012年
- 晶片的洁净程度直接决定了晶片的价值,而晶片最前端工艺就是清洗。现代化超声技术的应用可让晶片更洁净。超声波清洗的功率、频率、尺寸、安装方式的选择都与晶片清洁程度有着密切关系。主要对超声波的原理和频率的选定进行了介绍。
- 宋伟峰成龙刘永进关宏武
- 关键词：超声波
- 全自动RCA清洗机工艺探讨
- 2020年
- 介绍了半导体圆片存在的各种污染杂质的类型和去除方法,并概要总结了半导体圆片的清洗技术及RCA清洗技术的进步和优化,对半导体圆片的湿法清洗工艺步骤优化进行了分析.
- 宋伟峰
- SAT与SST在半导体清洗工艺中的应用
- 2014年
- 针对芯片制造商对设备低投入高产出的要求,介绍了能将多种工艺集成在一起的工作台SAT(喷酸系统)与SST(喷雾溶剂系统),详细介绍了其工作原理及特点,并与清洗机+甩干机传统清洗及刻蚀方式进行了详细对比,根据厂商实际使用效果,可以看出这两种集成工作台可以有效降低成本,提高生产效率。
- 关宏武冯小强段成龙宋伟峰舒福璋
- 关键词：SATSST刻蚀
- RCA清洗机工艺探讨被引量：2
- 2021年
- 随着半导体技术进步,半导体芯片工艺线宽在不断缩小,因此芯片制造过程中的颗粒控制越来越严格。在制造过程中,如受到颗粒的污染,会造成芯片电路短路,导致芯片失效,因此严格控制污染物的引入和半导体晶圆的清洁是半导体工艺过程的重中之重。
- 宋伟峰
- 湿法刻蚀及其均匀性技术探讨被引量：11
- 2012年
- 湿法刻蚀是化学清洗方法之一,是一种在半导体制造过程中被广泛应用的工艺,具有对器件损伤小、设备简单等特点。本文介绍了湿法刻蚀工艺的原理、工艺过程以及应用,分析了影响湿法刻蚀均匀性的主要因素,并提出提高刻蚀均匀性的方法。
- 段成龙舒福璋宋伟峰关宏武
- 关键词：湿法刻蚀刻蚀工艺半导体制造
- 溢流冲洗槽结构优化设计
- 2020年
- 介绍半导体行业溢流冲洗槽常用结构及优化设计,在半导体芯片制程中溢流冲洗槽是一种常用的工艺槽体,存在于半导体工艺过程,对芯片制程和半导体材料制程有着重要作用。
- 宋伟峰
- 半导体化学清洗沾污来源分析被引量：2
- 2014年
- 随着半导体工艺的不断发展,其对设备颗粒度的要求越来越高,文章分析了沾污产生的原因及出处,并对各种沾污进行了分析,并指出了解决方向,在很大程度上指导了半导体生产和研发环境的建立及完善。
- 关宏武段成龙冯小强宋伟峰舒福璋
- 关键词：沾污化学吸附静电
- 太阳跟踪装置被引量：3
- 2010年
- 太阳能作为一种无污染、可持续发展的新兴能源,已经引起世界各国的广泛关注,只有充分提高光照的利用率,才能最大限度的利用太阳能。提出一种简易的太阳跟踪装置,该装置采用双轴联动,齿轮传动,能够实时有效地对太阳进行跟踪。
- 冯小强宋伟峰宋婉贞赵永进
- 关键词：太阳能齿轮传动
