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杨春莉

作品数：2 被引量：8H指数：2
供职机构：华北光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇光刻技术
  • 1篇厚膜

机构

  • 2篇华北光电技术...
  • 1篇清华大学

作者

  • 2篇杨春莉
  • 1篇程绍椿
  • 1篇刘理天
  • 1篇林立
  • 1篇韦书领
  • 1篇郭喜
  • 1篇支淑英
  • 1篇巩爽

传媒

  • 2篇激光与红外

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2006
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
正/负双层光刻胶厚膜剥离技术被引量：5
2006年
首次介绍一种正/负双层光刻胶厚膜剥离技术,采用在厚层正型光刻胶上涂薄层负型光刻胶的方法,在光刻胶的边缘形成顶层外悬的屋檐式结构,实现了10μm蒸发膜层的无高沿边缘剥离。对不同的剥离膜厚,选取合适的胶厚,可控制剥离膜的横向尺寸精度。10μm厚蒸发膜层的横向尺寸差可控制在5μm内。
林立韦书领杨春莉刘理天程绍椿
关键词：光刻
适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术被引量：3
2010年
介绍了一种适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术,采用图形反转胶和正型光刻胶,选择合适的光刻工艺形成了光刻胶"倒梯形"的剖面结构,可以成功剥离与胶层厚度相同的膜层,厚度可达13μm。同时对一些技术机理和关键工艺条件进行了讨论。
郭喜支淑英杨春莉巩爽
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