涂昱淳
- 作品数：4 被引量：20H指数：3
- 供职机构：同济大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜被引量：7
- 2011年
- 采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3～15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%～65%。
- 涂昱淳宋竹青黄秋实朱京涛徐敬王占山李乙洲刘佳琪张力
- 关键词：MO/SI多层膜磁控溅射反射率
- 氮气反应溅射制备软X射线Co/Ti多层膜被引量：9
- 2015年
- 针对“水窗”波段（280～540 eV）对多层膜反射镜的应用需求,在Ti的L吸收边（452.5 eV）附近,优化设计了Co/Ti多层膜的膜系结构.计算了不同界面粗糙度条件下的反射率,结果显示,界面粗糙度对多层膜反射率有较大影响.采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制备了Co/Ti多层膜,通过将氮气引入原有的溅射气体氩气中作为反应气体,明显减小了制备的多层膜的界面粗糙度.利用X射线掠入射反射实验和透射电子显微镜测试了多层膜结构,并在北京同步辐射装置（BSRF）3W1B实验站测量了不同氮气浓度下多层膜的反射率.结果显示,氮气含量为5％的溅射气体制备的多层膜样品反射率最高,即将纯氩气溅射制备得到的反射率9.5％提高到了12.0％.得到的结果表明,将氮气加入反应溅射气体可以有效改善Co/Ti多层膜的性能.
- 朱京涛岳帅鹏涂昱淳张一志
- 关键词：磁控溅射反应溅射反射率
- 磁控溅射制备极紫外高反射率多层膜应力研究被引量：4
- 2014年
- 为制备硼边附近6.7 nm波长的极紫外高反射率多层膜反射镜,研究了Mo_2C/B_4C,Mo/B_4C周期多层膜,重点解决薄膜应力难题。采用直流磁控溅射技术制备了膜层厚度为30 nm的Mo,Mo_2C,B_4C,单层膜,周期厚度为3.5 nm,30对的Mo_2C/B_4C,Mo/B_4C周期多层膜。利用台阶仪测试了镀膜前后基底面形,计算并比较了不同薄膜样品的应力值。结果表明Mo_2C/B_4C多层膜压应力要远小于Mo/B_4C多层膜,且成膜质量与Mo/B_4C相当。因此Mo_2C/B_4C是应用于6.7 nm反射镜较好的多层膜材料组合。
- 何世峰涂昱淳冯志祥岳帅鹏王风丽朱京涛
- 关键词：应力多层膜磁控溅射极紫外
- 氮气反应溅射制备Co/Sb多层膜研究被引量：2
- 2014年
- 针对"水窗"波段(280~540eV)对多层膜反射镜的应用需求,在Sb的M5吸收边(525.5eV)附近,选择Co和Sb作为该能点的多层膜材料组合,优化设计膜系结构。采用直流磁控溅射方法制备了Co/Sb多层膜,通过在溅射气体氩气中引入氮气作为反应气体,多层膜界面粗糙度明显减小。利用X射线掠入射反射(GIXRR)测试多层膜结构,并在北京BSRF同步辐射3W1B实验站测量了反应溅射前后的多层膜反射率(SXR),结果表明:氮气含量为25%时的界面粗糙度最小,反射率从无反应溅射的7.2%提高到11.7%。
- 岳帅鹏朱京涛涂昱淳张一志
- 关键词：反应溅射多层膜COSB
