苗俊芳
- 作品数：5 被引量：14H指数：3
- 供职机构：中国电子科技集团公司第二研究所更多>>
- 相关领域：电子电信文化科学金属学及工艺航空宇航科学技术更多>>
- 微波等离子清洗技术在LCD中的应用被引量：1
- 2012年
- 微波等离子清洗技术具有优越的环境特性和去污能力,但传统产生等离子体的不足限制了等离子清洗技术在工业中的应用,近期等离子领域的理论研究及实践表明通过改变等离子体的生成条件,使用微波产生等离子可以避免清洗中产生的静电损伤,从而为扩展等离子技术在工业中的应用提供可能。在此介绍了等离子清洗机的基本原理和方法,分析了微波等离子清洗机在LCD中的应用,并针对LCD产业中存在的主要问题提出了可行的改进方法。
- 马良苗俊芳牛进毅
- 关键词：等离子清洗静电损伤微波
- 真空热处理炉恒温区均匀性的测定被引量：3
- 2012年
- 介绍了真空热处理炉恒温区的测量原理、测量步骤及测量过程中需要注意的事项,恒温区的均匀性,是保证热处理工艺需求、保证热处理产品品质、提高生产率的重要保障。
- 李安华王永卿苗俊芳
- 关键词：真空热处理均匀性
- 硅片自动上下料设备的研制被引量：6
- 2012年
- 通过分析太阳能电池制造过程中硅片的上料和下料方式的现状,提出自动上下料设备研制的必要,介绍了全自动硅片上下料设备的技术参数和工艺流程,详细分析了设备的结构设计,包括自动换蓝组件、装片组件、缓存组件、传动系统、电气控制系统和设备主体等。
- 苗俊芳李安华廖鑫
- 关键词：硅片上料下料
- 射频等离子清洗系统设计被引量：3
- 2012年
- 等离子清洗具有优越的环境特性和去污能力,但缓慢的清洗速度限制了等离子清洗技术的应用,近期等离子领域的研究及实践表明通过控制等离子体的生成条件和工艺气体可以显著提高等离子清洗的去污速度,从而为扩展等离子技术在工业中的应用提供可能。介绍了等离子清洗的原理和方法,分析了影响等离子清洗效果的因素,并完成了射频等离子清洗系统的设计。
- 柳国光苗俊芳胡文平师筱娜
- 关键词：等离子清洗影响因素射频
- 影响SheetWorks钣金三维模型展开的问题解析及图形的正确建模被引量：1
- 2014年
- 正确规范的建模,是决定SheetWorks能否顺利展开钣金三维模型的主要因素。
- 廖鑫王丽苗俊芳
- 关键词：钣金三维模型
