肖沛
- 作品数：18 被引量：20H指数：3
- 供职机构：江苏科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金安徽省自然科学基金江苏省高校自然科学研究项目更多>>
- 相关领域：理学电子电信自动化与计算机技术机械工程更多>>
- 低能电子束光刻的Monte Carlo模拟被引量：1
- 2008年
- 利用Mott截面和介电函数模型,借助Monte Carlo方法模拟了电子在光刻胶PMMA和衬底中的弹性散射和非弹性散射.通过统计电子的能量沉积分布,发现低能电子的大部分能量沉积在光刻胶中而非衬底,所以在电子束光刻中有着更高的效率.并且还得到了在不同的入射电子能量下,光刻胶完全曝光所对应的的最佳厚度.
- 肖沛林季资
- 关键词：电子束光刻MONTECARLO模拟
- 电子束光刻中邻近效应的Monte Carlo模拟被引量：1
- 2004年
- 孙霞丁泽军肖沛吴自勤
- 关键词：电子束光刻MONTECARLO模拟抗蚀剂分辨率
- ZrSiO_4∶Ti^(3+)晶体的电子顺磁共振参量理论研究
- 2016年
- 基于离子簇模型,采用d^1在四角伸长四面体对称中电子顺磁共振(EPR)参量的高阶微扰公式,计算了ZrSiO_4晶体中处于Si^(4+)位的四角Ti^(3+)中心的EPR参量(g因子g//,g┴和超精细结构常数A因子A//,A┴)。由于配体O_2^-与中心金属离子Ti^(3+)的旋轨耦合系数大小相近,在这些公式中同时考虑了配体p、s轨道及旋轨耦合作用对EPR参量的贡献。公式里的能级分裂由重叠模型和杂质中心的局部结构确定。研究发现,掺杂后形成的四面体团簇[TiO_4]^(5-)相对母体产生了约0.3°的角度畸变。计算所得的EPR理论值与实验值符合的很好。
- 林季资肖沛赵越张宝芳杨圆
- 关键词：四面体
- 大学物理中微积分应用浅析
- 2020年
- 大学物理以研究矢量、变量为主,在数学处理上常采用微积分方法,与中学物理有着很大不同。大学物理教师若能在课堂上较好地将微积分思想融入课堂教学当中,将有助于学生掌握微积分方法。本文结合大学物理中的经典例题,阐述微积分在大学物理中的应用,为更好地提升学生解决物理问题水平及能力提供帮助。
- 林季资肖沛赵越张玉峰王勇幸
- 关键词：微积分导数微分方程
- MO2（M=Ti,Ge,Sn）晶体中替位V4+自旋哈密顿参量研究
- 2008年
- 基于离子簇模型，应用斜方畸变八面体中3d^1电子的EPR参量微扰公式，研究了MO2（M=Ti，Ge，Sn）晶体（金红石型）中替位V^4＋的EPR参量，发现由于V^4＋取代晶体中阳离子而引起的姜泰勒（Jahn—Teller）效应，将导致杂质离子局部结构形成微小压缩八面体．进一步考虑了配体轨道及旋轨耦合作用和杂质离子周围的畸变对自旋哈密顿参量的贡献，结果与实验符合的更好．
- 林季资肖沛
- 关键词：电子顺磁共振
- Mott散射和电子极化术被引量：1
- 2005年
- 文章回顾了Mott散射过程及其物理图像,介绍了Sherman函数的定义、计算和测量,简述了探测自旋极化电子的仪器———Mott电子极化仪的一般设计,列举了获得自由极化电子的几种方法和原理.
- 孙霞丁泽军肖沛吴自勤
- 关键词：散射自旋极化电子物理图像N函数
- 限角散射电子束光刻的Monte Carlo模拟
- 本论文主要工作是利用MonteCarlo方法模拟了在电子束光刻中电子穿越掩模的过程和电子在抗蚀剂和衬底中的散射过程。在电子穿越掩模的模拟中，利用介电函数模型解决了以前各种模型存在的问题，根据模拟结果得到：散射体的厚度对衬...
- 肖沛
- 关键词：电子束光刻掩模散射抗蚀剂衬底
- 文献传递
- 吸收对近场超透镜成像影响的研究
- 2013年
- 在Pendry对纯银膜完美成像分析的基础上,推导了p波入射倏逝波和行波成像特性,进而得到近场可调超透镜成像的条件,分析了材料吸收对成像的影响,计算了银颗粒在纳米尺度下对超透镜分辨率的影响.通过计算表明多层复合薄膜会提高超透镜的分辨率.
- 肖沛林季资
- 关键词：负折射率倏逝波介电常数
- 电子束刻蚀中邻近效应的修正
- 2013年
- 以拓展的三高斯邻近效应函数为基础,利用空间图形密度方法对电子刻蚀中的邻近效应进行修正,并对该方法的原理及实现步骤进行了较为详细的介绍.通过和传统的邻近函数为基础得到的修正结果相比,经过拓展后的邻近函数有着更好的修正效果.
- 肖沛
- 关键词：电子束刻蚀高斯函数
- 图形改正方法在邻近效应修正中的应用被引量：1
- 2008年
- 本文利用双高斯形式的邻近函数来表达电子束在抗蚀剂中能量的分布,并以邻近函数为基础计算一些简单图形在曝光时所需的尺寸改变量。通过与实验的比较来说明该方法的可靠性,并对所得结果进行讨论和分析。
- 肖沛林季资
- 关键词：邻近效应校正电子束光刻
