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吴光庆

作品数：4 被引量：1H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 1篇电镀
  • 1篇电镀槽
  • 1篇镀槽
  • 1篇运动仿真
  • 1篇升降式
  • 1篇湿法
  • 1篇湿法腐蚀
  • 1篇湿化学
  • 1篇偏心
  • 1篇气液分离
  • 1篇气液分离器
  • 1篇曲柄
  • 1篇晶圆
  • 1篇化学品
  • 1篇工业设备
  • 1篇仿真
  • 1篇分离器
  • 1篇封装
  • 1篇硅
  • 1篇MATLAB

机构

  • 4篇中国电子科技...

作者

  • 4篇吴光庆
  • 2篇郭春华
  • 1篇张伟峰
  • 1篇史霄
  • 1篇曹秀芳

传媒

  • 4篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2020
  • 2篇2017
  • 1篇2015
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
2.5D封装中硅转接板双面电镀槽研究
2020年
介绍了在2.5D封装中运用简化工艺进行硅转接板双面电镀的电镀槽功能模块及其设计原理。
陈苏伟吴光庆曹秀芳张伟峰解坤宪
关键词：电镀槽
基于MATLAB的升降式抖动机构运动仿真
2015年
通过对晶圆清洗过程中常用抖动机构的分析,将其等效为偏心曲柄-滑块机构。建立数学模型,分别推导出曲柄的角位移、角速度、角加速度和滑块的位移、速度、加速度,并应用MATLAB软件进行仿真,得到了滑块的位移、速度及加速度曲线。
郭春华史霄吴光庆秦亚奇
关键词：晶圆
湿法腐蚀清洗设备中的循环管路应用
2017年
湿法腐蚀清洗设备是集成电路、LED、太阳能、MEMS等芯片制造中必不可少的工艺设备,而为了更好的达到腐蚀效果,在各种腐蚀工艺中往往要配合药液的循环完成,从而达到更好的腐蚀均匀性。介绍了几种常用的腐蚀工艺循环原理及在湿法腐蚀清洗设备的典型应用。
吴光庆
化学品集中供液系统在湿化学工业设备中的应用被引量：1
2017年
介绍了化学品集中供液系统(CDS)的组成以及工作原理,并探讨了系统中几种关键结构件的功能,为远距离输送、精确配比等工况下的高效供液打下基础。
吴光庆郭春华
关键词：气液分离器
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