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张永熙

作品数:11 被引量:150H指数:3
供职机构:复旦大学更多>>
发文基金:上海市教育委员会重点学科基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 3篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 4篇理学
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 9篇溅射
  • 9篇磁控
  • 9篇磁控溅射
  • 6篇氧化钛薄膜
  • 6篇溅射制备
  • 6篇二氧化钛薄膜
  • 6篇磁控溅射制备
  • 4篇光催化
  • 4篇反应磁控溅射
  • 4篇催化
  • 3篇普通玻璃
  • 3篇汽车
  • 3篇汽车玻璃
  • 3篇自清洁
  • 3篇自清洁玻璃
  • 3篇门窗
  • 3篇门窗玻璃
  • 2篇水性
  • 2篇亲水性
  • 2篇沉积速率

机构

  • 11篇复旦大学

作者

  • 11篇张永熙
  • 10篇杨锡良
  • 10篇章壮健
  • 9篇陈华仙
  • 9篇沈杰
  • 8篇董昊
  • 3篇蒋益明
  • 2篇陆明
  • 2篇严学俭

传媒

  • 3篇真空科学与技...
  • 2篇上海市真空学...
  • 1篇华东三省一市...

年份

  • 1篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 8篇2000
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜性质的影响被引量:26
2000年
在玻璃基板上用直流反应磁控溅射钛靶的方法制备TiO2 薄膜。在溅射总气压为 0 4Pa ,氧氩比分别为 1∶9,1∶5及 1∶3 2的情况下 ,调节溅射功率使沉积速率由 0 99nm/min变化到 12 12nm/min ,而且当基板温度为 34 0℃时 ,薄膜在可见光范围内的平均折射率基本不变 ,为 2 48± 0 0 3,而薄膜的表面形貌却有明显变化。XRD表明 ,在pO2 /pAr为 1∶9的条件下 ,薄膜中出现了TiOx(x <2 )的晶粒 ,但这对薄膜的光学性质并无影响。另外对TiO2
张永熙沈杰杨锡良陈华仙陆明严学俭章壮健
关键词:二氧化钛薄膜反应磁控溅射光学薄膜
一种自清洁玻璃
本实用新型涉及一种具有自清洁功能的玻璃。它以普通玻璃为基板,其上由磁控溅射法镀有二氧化钛膜层。本自清洁玻璃具有良好的亲水性能和分解有机物的能力,因而具有很强的自清洁功能,使用寿命可长达10年以上。该玻璃可以广泛用作房屋建...
杨锡良章壮健沈杰陈华仙张永熙董昊
文献传递
反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜的光催化特性研究
本文在磁控溅射器中用钛板作阴极,采用反应磁控溅射方法在玻璃基板上制备了二氧化钛薄膜,溅射气体为氧氩混合气体。
章壮健张永熙董昊杨锡良陈华仙沈杰蒋益明
关键词:二氧化钛光催化磁控溅射
二氧化钛光催化薄膜的研究与应用-纳米二氧化钛光催化自清洁玻璃
章壮健杨锡良陈华仙沈杰张永熙董昊
我们分析了当时国内外纳米二氧化钛光催化材料研究动态及本实验室的条件,决定“二氧化钛光催化薄膜的研究和应用”主要研究方向为反应磁控溅射法制备自清洁玻璃。而高质量的自清洁玻璃必须具备:优良的分解有机物质本领及超亲水性能,还应...
关键词:
磁控溅射制备TiO<,2>薄膜的光学和光电化学性质研究
该论文由三部分组成:第一部分研究了直流反应磁控溅射制备TiO<,2>薄膜过程中,沉积速率同溅气压、基板同靶的距离(TSD)、基板温度、氧氩比和油射速率等重要工艺参数的关系.第二部分结合占钨灯用透明反近红外节能薄的研制,逐...
张永熙
关键词:TIO<,2>薄膜磁控溅射光催化亲水性
文献传递
溶胶-凝胶法制备二氧化钛薄膜的亲水性研究被引量:68
2000年
对采用溶胶 凝胶法制备的TiO2 薄膜的亲水性进行了研究 ,讨论了退火时间和薄膜厚度对亲水性的影响 ,对亲水的机理进行了初步讨论 ,并讨论了通过测量薄膜表面水滴的直径来计算接触角的方法 ,与照相方法测得的接触角进行了比较 ,两者完全符合。
沈杰董昊张永熙杨锡良陈华仙顾元壮章壮健
关键词:溶胶-凝胶法亲水性接触角二氧化钛薄膜
一种自清洁玻璃及其制备方法
本发明涉及一种具有自清洁功能的玻璃及其制备方法。它以普通玻璃为基板,其上由磁控溅射法镀有二氧化钛膜层。本自清洁玻璃具有良好的亲水性能和分解有机物的能力,因而具有很强的自清洁功能,使用寿命可长达10年以上。该玻璃可以广泛用...
杨锡良章壮健沈杰陈华仙张永熙董昊
文献传递
沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜性质的影响
在玻璃基板上用直流反应磁控溅射钛靶的方法制备TiO2薄膜.在溅射总气压为0.4Pa,氧氩比分别为1:9、1:5及1:3.2的情况下,调节溅射功率使沉积速率由0.99nm/min变动到12.12nm/min,而且当基板温度...
张永熙沈杰杨锡良陈华仙陆明严学俭章壮健
关键词:二氧化钛薄膜反应磁控溅射沉积速率晶体结构
直流反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜的光催化性研究被引量:69
2000年
在磁控溅射器中用钛板作阴极 ,采用直流反应磁控溅射在玻璃基板上制备二氧化钛薄膜 ,溅射气体为氧、氩混合气体 ,O2 与Ar比例为 1∶2 ,溅射总气压范围为 0 5~ 6 65Pa ,溅射时基板温度范围为 1 0 0~ 40 0℃ ,薄膜厚度范围为 1 4 0~ 1 1 0 0nm。XRD结果显示薄膜具有纯锐钛矿结构或锐钛矿和金红石的混合结构。在高的基板温度和适宜的溅射总气压下制备的薄膜以及厚度较厚的薄膜在紫外光照射后 。
董昊张永熙杨锡良沈杰陈华仙蒋益明顾元壮章壮健
关键词:直流反应磁控溅射光催化性二氧化钛薄膜
反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜的光催化特性研究
本文在磁控溅射器中用钛板作阴极,采用反应磁控溅射方法在玻璃基板上制备了二氧化钛薄膜,并研究了其光催化特性。
章壮健张永熙董昊杨锡良陈华仙沈杰蒋益明
关键词:反应磁控溅射二氧化钛薄膜光催化特性
共2页<12>
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