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钱大憨

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:中国科学院上海技术物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金上海市自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇碲镉汞
  • 1篇电器件
  • 1篇电阻
  • 1篇在线检测
  • 1篇正交
  • 1篇正交试验
  • 1篇扫描电子显微...
  • 1篇微观形貌
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束溅射
  • 1篇离子束溅射沉...
  • 1篇刻蚀
  • 1篇基底
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇胶带
  • 1篇光电
  • 1篇光电器件
  • 1篇光刻
  • 1篇归一化

机构

  • 4篇中国科学院
  • 2篇中国科学院研...
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 4篇钱大憨
  • 4篇贾嘉
  • 3篇李向阳
  • 2篇汤亦聃
  • 1篇陈柳炼
  • 1篇刘福浩
  • 1篇朱龙源
  • 1篇陈昱
  • 1篇乔辉
  • 1篇张立瑶
  • 1篇叶柏松
  • 1篇刘飞
  • 1篇王韡

传媒

  • 1篇红外
  • 1篇红外技术

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
一种以碲镉汞为基底的薄膜附着力定量测试方法
本发明公开了一种以碲镉汞为基底的薄膜附着力定量测试方法:(1)光刻图形:用光刻的方法在碲镉汞基底上的薄膜表面形成方格图形;(2)形成方格:用刻蚀或浮胶的方法将薄膜分割形成若干方格;(3)粘贴胶带:将胶带粘在薄膜上,并施以...
贾嘉钱大憨汤亦聃乔辉李向阳
文献传递
基于正交试验的双离子束溅射沉积系统参数优化设计
离子束溅射沉积薄膜技术广泛用于高质量半导体薄膜和光学薄膜的制备工艺,在制备过程中生长条件的选取决定了薄膜的质量和性能。本文采用LDJ-2A-F150双离子束溅射系统在宝石衬底上沉积Au膜,通过正交试验设计优化Au膜沉积参...
钱大憨贾嘉汤亦聃乔辉李向阳
关键词:正交试验离子束溅射沉积
文献传递
光导型碲镉汞红外器件的曲面延伸电极工艺评价
2011年
制备了一种带有曲面延伸电极结构的碲镉汞光导型红外探测器,对曲面延伸电极的抗低温冲击能力进行了研究,在9次的液氮直接冲击下曲面延伸电极完好,器件电阻无大变化。通过扫描电子显微镜(SEM)对曲面延伸电极的台阶侧面微观形貌进行观察,发现在延伸台阶的侧面有孔洞出现。通过改进镀膜工艺,延伸台阶侧面的金属薄膜致密无孔洞。这表明宏观的电阻表征对微观缺陷不敏感,对电极可靠性的表征要结合微观形貌表征进行;同时适当的薄膜制备条件可以使大台阶侧面获得致密的金属薄膜,从而获得良好的台阶覆盖性。
钱大憨贾嘉陈昱王韡汤亦聃朱龙源李向阳
关键词:扫描电子显微镜微观形貌
光电器件薄膜附着力评价方法的研究进展被引量:1
2011年
薄膜与衬底的结合性能一直备受关注。在各种情况下,薄膜的性能都依赖于其与衬底的附着力大小。为了提高附着强度,需要深刻理解附着力的机理和开发合适的附着力测试技术。从基准附着力、热力学附着能和实际附着力三个不同角度提供了附着力评价途径。作为广泛使用的附着力粘接测试技术,拉脱法和压带剥落法等方法在大量样品测试方面具有独特优势,可定性、半定量地评价薄膜附着性能。
钱大憨贾嘉陈柳炼刘福浩刘飞张立瑶叶柏松李向阳
关键词:附着力光电器件测试技术
共1页<1>
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