李刚
- 作品数：8 被引量：5H指数：1
- 供职机构：西安工业学院光电工程学院更多>>
- 发文基金：陕西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>
- 脉冲碳等离子体源发射特性研究被引量：1
- 2003年
- 研究讨论了在脉冲工作方式下,碳等离子体源的发射特性.根据离子束流分布和膜层厚度测试结果,分析了影响脉冲碳等离子体源发射特性的因素.给出了改善脉冲碳等离子体源发射特性的途径.
- 杭凌侠蔡长龙弥谦严一心李刚朱昌
- 关键词：真空电弧离子镀
- 脉冲离子源所镀膜层厚度分布曲线的测量被引量：2
- 2002年
- 为了解决大面积类金刚石薄膜的均匀性,首先要研究脉冲离子源所镀制的类金刚石薄膜的厚度分布曲线。针对这一目的,做了大量工艺实验,在不同的脉冲离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数下制备了样品,并选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了在各种工艺参数下脉冲离子源所镀膜层厚度的分布曲线。
- 蔡长龙王季梅李刚杭凌侠徐均琪严一心
- 脉冲真空电弧离子源工艺参数对薄膜厚度分布的影响被引量：1
- 2002年
- 薄膜厚度的均匀性是影响沉积方法应用的一个重要的因素，利用脉冲真空电弧离子镀技术在Si基片上沉积山类金刚石薄膜，采用轮廓仪对膜的厚度进行了测量，研究服不同工艺参数对薄膜均匀性的影响。实验结果表明：脉冲离子源阴极和基片的距离，主回路工作电压以及沉积频率对薄膜均匀性有不同程度的影响。根据分析结果，找出最佳工艺参数，通过比较两种离子源的结果表明，离子源结构对其镀膜均匀性有较大的影响。
- 李刚蔡长龙等
- 关键词：离子源工艺参数
- 脉冲真空电弧离子源工艺参数对薄膜厚度分布的影响
- 薄膜厚度的均匀性是影响沉积方法应用的一个重要的因素。利用脉冲真空电弧离子镀技术在si基片上沉积出类金刚石薄膜,采用轮廓仪对膜的厚度进行了测量,研究了不同工艺参数对薄膜均匀性的影响。实验结果表明:脉冲离子源阴极和基片的距离...
- 李刚蔡长龙杭凌侠严一心
- 关键词：离子镀
- 文献传递
- 脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量被引量：1
- 2001年
- 通过大量工艺实验 ,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数 (主回路电压 ,脉冲频率 )、基片高度以及磁场等工艺参数的样品 ,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量 。
- 蔡长龙杭凌侠李刚徐均琪严一心朱昌
- 关键词：离子源类金刚石薄膜
- 脉冲真空电弧制备类金刚石红外增透膜的性能测试
- 类金刚石(DLC)薄膜作为新一代的光学薄膜材料具有十分优异的性能:红外区透明、热导率高、耐摩擦、化学性能稳定、耐热冲击……等等,能较好地满足红外光学系统的需要,采用脉冲真空电弧制备类金刚石薄膜,膜层性能稳定、3.4μm处...
- 严一心蔡长龙李刚杭凌侠朱昌
- 文献传递
- 脉冲真空电弧离子源工艺参数对薄膜厚度分布的影响
- 薄膜厚度的均匀性是影响沉积方法应用的一个重要的因素.利用脉冲真空电弧离子镀技术在Si基片上沉积出类金刚石薄膜,采用轮廓仪对膜的厚度进行了测量,研究了不同工艺参数对薄膜均匀性的影响.实验结果表明:脉冲离子源阴极和基片的距离...
- 李刚蔡长龙杭凌侠严一心
- 关键词：薄膜厚度真空电弧离子镀
- 文献传递
- 脉冲电弧离子源镀膜均匀性研究被引量：1
- 2002年
- 薄膜厚度的均匀性是影响沉积方法应用的一个重要因素 .利用脉冲电弧离子镀技术在硅基片上沉积类金刚石薄膜 ,并用轮廓仪对薄膜的厚度进行测量 ,研究了不同参数对薄膜均匀性的影响 .结果表明 :离子源阴极和基片的距离、主回路工作电压以及沉积频率都不同程度地影响薄膜均匀性 ,文章还就不同类型离子源对薄膜均匀性的影响进行了探讨 .
- 李刚蔡长龙权贵秦严一心
- 关键词：离子源均匀性薄膜厚度
