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杭凌侠

作品数:193 被引量:500H指数:12
供职机构:西安工业大学更多>>
发文基金:陕西省教育厅科研计划项目国家自然科学基金陕西省自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 108篇期刊文章
  • 48篇专利
  • 37篇会议论文

领域

  • 79篇理学
  • 26篇电子电信
  • 24篇一般工业技术
  • 20篇金属学及工艺
  • 12篇机械工程
  • 10篇化学工程
  • 2篇电气工程
  • 2篇文化科学
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇核科学技术

主题

  • 50篇光学
  • 31篇类金刚石
  • 22篇金刚石薄膜
  • 22篇磁控
  • 22篇磁控溅射
  • 22篇粗糙度
  • 21篇类金刚石薄膜
  • 20篇面粗糙度
  • 20篇表面粗糙度
  • 19篇离子束
  • 17篇抛光
  • 17篇离子束辅助
  • 15篇离子镀
  • 15篇离子能量
  • 14篇离子
  • 14篇离子束辅助沉...
  • 14篇离子源
  • 14篇溅射
  • 13篇等离子体
  • 13篇激光

机构

  • 129篇西安工业大学
  • 62篇西安工业学院
  • 12篇西安交通大学
  • 8篇西安电子科技...
  • 4篇西北工业大学
  • 3篇悉尼大学
  • 1篇北京理工大学
  • 1篇西北大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇重庆工商大学
  • 1篇北京理工大学...
  • 1篇中国空间技术...
  • 1篇中国重型机械...

作者

  • 193篇杭凌侠
  • 56篇徐均琪
  • 54篇弥谦
  • 43篇潘永强
  • 42篇严一心
  • 36篇朱昌
  • 31篇蔡长龙
  • 27篇惠迎雪
  • 24篇郭忠达
  • 21篇刘卫国
  • 17篇陈智利
  • 15篇苏俊宏
  • 12篇阳志强
  • 11篇田爱玲
  • 10篇刘卫国
  • 9篇吴玲玲
  • 8篇吴振森
  • 8篇梁海锋
  • 8篇王红军
  • 8篇孙国斌

传媒

  • 16篇西安工业大学...
  • 12篇西安工业学院...
  • 11篇真空科学与技...
  • 9篇表面技术
  • 8篇应用光学
  • 5篇红外与激光工...
  • 5篇光学仪器
  • 4篇光学技术
  • 4篇真空
  • 4篇光电工程
  • 3篇激光与光电子...
  • 3篇中国激光
  • 3篇真空电子技术
  • 2篇光子学报
  • 2篇真空科学与技...
  • 2篇高校实验室工...
  • 2篇科技创新导报
  • 2篇第十一届全国...
  • 2篇第九届全国光...
  • 1篇物理

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 4篇2017
  • 3篇2016
  • 7篇2015
  • 7篇2014
  • 12篇2013
  • 13篇2012
  • 11篇2011
  • 15篇2010
  • 21篇2009
  • 12篇2008
  • 15篇2007
  • 14篇2006
  • 13篇2005
  • 8篇2004
  • 6篇2003
  • 7篇2002
  • 9篇2001
193 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
磁流变柔性精磨抛光设备和方法
本发明提供了一种磁流变柔性精磨抛光方法和设备。采用环带状的柔性精磨抛光磨具,工件被夹持在移动、自转和摆动三维运动的工件主轴装置上,其表面与柔性精磨抛光磨具自适应吻合的加工方法;磁流变柔性精磨抛光设备主要由机座、工件主轴装...
刘卫国郭忠达杭凌侠陈智利王红军田爱玲
文献传递
钛镍合金上制备类金刚石薄膜的性能研究被引量:8
2005年
 Ti Ni形状记忆合金是目前唯一用作生物医学材料的形状记忆合金。它的主要缺点是不具有生物活性,会对机体造成不利影响。DLC膜以其优异的生物相容性、抗腐蚀性及化学稳定性倍受关注。利用脉冲真空电弧离子镀技术镀制DLC膜改善Ti Ni合金的表面性能。对DLC膜的表面形貌、显微硬度、摩擦系数、耐磨性能及耐腐蚀性能进行了测试。结果表明:用脉冲真空电弧离子镀技术制备的DLC膜膜层表面形貌较好、硬度高、摩擦系数小、耐磨及耐腐蚀性能良好。
吴玲玲梁海峰蔡长龙徐均琪杭凌侠严一心
关键词:类金刚石薄膜
磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响被引量:33
2004年
沉积速率是磁控溅射镀膜技术中的一项重要指标 ,它由许多因素决定。为了定性地了解沉积速率与工作气压之间的关系 ,通过实验测定了不同工作气压下的沉积速率 ,发现存在一个最大值 ,并对应有一个最佳工作气压。运用气体放电理论对这一现象进行了分析。这个结论为提高薄膜制备效率指明了方向 。
王璘余欧明杭凌侠赵保平王忠厚
关键词:沉积速率工作气压磁场
光学零件亚表层损伤测试技术研究
我国目前正在实施的激光核聚变、强激光技术、深亚微米集成电路技术、高密度存储技术等国家工程,均需要超光滑光学表面(Super Smooth Surface),随着研究的深入,超光滑光学表面的检测技术已成为研究的热点之一。超...
庞云霞杭凌侠
文献传递
太阳能模拟器滤光片研制与测试
太阳模拟技术的应用非常广泛,应用太阳模拟技术研制的大型太阳模拟器是航天技术卫星空间环境模拟的最主要部分。在太阳能光伏科学与工程中,太阳模拟器主要用于用于太阳电池的检测与标定。随着我国对太阳能产业的长期规划与投资,这项阳光...
施洋潘永强杭凌侠
关键词:大气质量能谱分析
文献传递
β相聚偏二氟乙烯PVDF薄膜的制备和热光效应研究被引量:4
2006年
采用溶液旋覆法制备β相 PVDF 铁电聚合物薄膜,利用 X 射线衍射仪、傅里叶红外光谱仪对薄膜晶形结构进行分析,并使用椭偏仪测定了溶液法制备的β相 PVDF 薄膜热光系数,同时对其热-光信号读出机制进行研究。结果表明,在60~120℃下结晶有利于β晶相的形成,而较高温度下主要形成γ晶相;薄膜的热光效应不仅与其热膨胀紧密相关,还受到温度变化趋势的影响,在20~100℃范围内,β相 PVDF 聚合物薄膜有较高的(负)热光系数约2.4~3.3×10^(-4)/K,升温条件下测得的热光系数更高;在探测波长633 nm 条件下,薄膜反射率变化可以线性地表征出薄膜温度的变化,基于薄膜热光效应的热-光信号读出机制是可行的。
惠迎雪刘卫国牛小玲杭凌侠樊慧庆
关键词:PVDFΒ相热光效应
退火温度对硅基硬质碳膜内应力和硬度的影响被引量:1
2007年
硬质碳膜中应力的存在限制了其应用,真空退火是降低内应力的有效措施.本文利用BGS6341型电子薄膜应力分布测试仪和HXD-1000型数字式硬度计,对在硅基片上用非平衡磁控溅射制备的碳膜应力和硬度随退火温度的变化进行了研究.研究结果表明:随退火温度的升高,碳膜平均应力减小,分布趋向均匀,但硬度下降;在退火温度300℃下平均应力减小为-2.29×108Pa,膜的硬度变化不明显,维氏硬度从4780.3589 MPa降到4194.099 MPa(类似于类金刚石(DLC)),此退火温度下保证了薄膜具有很小的内应力同时具有较高的硬度.
杭凌侠朱小琴
关键词:非平衡磁控溅射碳膜退火温度应力
PECVD技术制备光学薄膜的研究进展被引量:7
2020年
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在制备高激光损伤阈值的激光薄膜和渐变折射率结构的光学薄膜方面有独特的优点。通过大量的工艺研究,人们掌握了调控光学薄膜材料折射率和降低消光系数的方法。目前已知薄膜的最低折射率为1.16±0.01(632.8 nm波长处),有效拓展了薄膜材料的折射率范围。当薄膜的消光系数小于10-3时,薄膜折射率的可变范围为1.33~2.06,基本满足光学薄膜设计和制造的需求,且获得了大量中间折射率的制备工艺,基本满足光学薄膜设计和制造的需求。此外,薄膜制备工艺的稳定性和重复性也通过实验得到了验证。目前,PECVD技术已被用于制备多层光学薄膜,如减反膜、高反膜、Rugate滤光片、陷波滤光片,薄膜的光谱特性及抗激光损伤特性明显优于传统光学薄膜。特别是在渐变折射率薄膜的制造领域,PECVD技术有广阔的工程应用前景。
杭良毅刘卫国杭凌侠周顺
关键词:光学薄膜折射率消光系数
光学介质薄膜抗激光损伤特性的研究
2010年
采用离子束辅助沉积的方式镀制了几种介质膜料的单层膜。利用1.064μm调Q Nd:YAG脉冲激光器,对它们的损伤特性进行了研究。观察并讨论了在不同激光能量下薄膜的损伤现象,同时利用TaylorHobson干涉仪检测了薄膜表面的粗糙度变化。研究表明,在不同的激光能量下,单层HfO2薄膜出现了不同的损伤形态,且表面粗糙度随着激光能量的增加有正相关的变化;在同一激光能量下,不同工艺条件制备的HfO2薄膜有不同程度的损伤,可以得到较好的制备工艺参数;三种不同的氟化物薄膜即氟化镁(MgF2)、氟化钡(BaF2)、氟化钇(YF3)在相同的激光能量下,也出现了不同的损伤形貌,得出了损伤阈值高的薄膜是氟化钇薄膜。
李荣徐均琪苏俊宏杭凌侠
关键词:激光损伤
非平衡磁控溅射制备纳米级DLC薄膜的力学性能研究
类金刚石膜(diamond-like carbon,DLC),是一种性质类似于金刚石的新型功能材料。与金刚石薄膜相比,类金刚石薄膜不仅具备高耐磨性、低摩擦系数、热稳定性、红外透光性、高电阻、低介电常数等优异的性能,并且其...
惠迎雪杭凌侠徐均琪
文献传递
共20页<12345678910>
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