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关秉羽

作品数:17 被引量:28H指数:4
供职机构:沈阳市北宇真空设备厂更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 6篇会议论文
  • 4篇专利

领域

  • 8篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇核科学技术

主题

  • 10篇等离子体
  • 6篇镀膜
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 4篇等离子
  • 4篇等离子体源
  • 4篇镀膜机
  • 3篇溅射
  • 2篇氮化
  • 2篇等离子体制备
  • 2篇真空镀膜
  • 2篇真空镀膜机
  • 2篇真空系统
  • 2篇偏压
  • 2篇微机控制
  • 2篇离子
  • 2篇离子镀
  • 2篇离子束
  • 2篇离子源
  • 2篇膜层

机构

  • 15篇大连理工大学
  • 9篇沈阳北宇真空...
  • 5篇沈阳市北宇真...
  • 2篇大连海事大学
  • 2篇哈尔滨工业大...

作者

  • 17篇关秉羽
  • 15篇李国卿
  • 8篇牟宗信
  • 5篇柳翠
  • 3篇李剑锋
  • 3篇张成武
  • 2篇田修波
  • 2篇陈玲玲
  • 2篇汪思源
  • 1篇黄开玉
  • 1篇丁振峰
  • 1篇龙振湖
  • 1篇魏永强
  • 1篇巩春志
  • 1篇张家良
  • 1篇林永清
  • 1篇苟伟
  • 1篇杨士勤
  • 1篇邹学平

传媒

  • 4篇真空
  • 4篇TFC’03...
  • 2篇核聚变与等离...
  • 1篇材料研究学报

年份

  • 2篇2008
  • 2篇2005
  • 2篇2004
  • 8篇2003
  • 3篇2002
17 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
镀膜机的微机控制
随着工农业的发展,计算机的普及及应用,计算机已经深入到国民经济的各个领域。镀膜机也不例外,为了保障产品的质量及生产的效率,将微机自动控制引入镀膜过程。在先进设备及工艺处理过程中,安排最佳运行方式,节约能源,保证镀膜质量。...
陈玲玲李国卿关秉羽汪思源
关键词:镀膜机微机控制磁控溅射
文献传递
等离子体-离子束源增强沉积设备
等离子体-离子束源增强沉积设备(如图1所示),是在专利ZL-92111475.3和专利ZL-92111302.1基础上设计制造的先进设备,该设备实现了金属、气体、离子束-多弧增强沉积技术和等离子体源表面强化-镀膜一体化技...
李国卿柳翠牟宗信关秉羽
关键词:等离子体源离子束
文献传递
强流磁约束金属离子注入源被引量:2
2005年
设计和制造了适合工业应用的强流金属离子源。离子源的电弧阴、阳电极之间和放电室壁采用永磁体阵列形成导流、屏蔽磁场,改进了电弧的放电特性和提高等离子体密度。离子注入源在加速电压为30kV、50Hz条件时,平均束流流强约为30mA,调试结果表明附加磁场提高了离子源性能。
牟宗信龙振湖李国卿关秉羽
关键词:等离子体离子束离子源
平面离子源增强沉积镀膜机
平面离子源增强沉积镀膜机属于等离子体表面物理气相沉积技术领域。平面离子源增强沉积镀膜机包括真空系统、加热系统、偏压系统、供气系统、工件传动机构以及平面离子源和磁控溅射、多弧等金属溅射蒸发源。平面离子源是由内阳极、狭缝阴极...
李国卿关秉羽李剑锋
文献传递
高真空磁过滤弧源
高真空磁过滤弧源属于等离子体和材料表面技术领域,包括弧源屏蔽1、阴极靶2、引弧磁体3、触发机构4、水冷阳极7、主弧电源11、辅助阳极电源5、辅助阳极10、磁场线圈6、离化阳极8和离化电源9,真空度为10<Sup>-1</...
李国卿关秉羽李剑锋牟宗信
文献传递
镀膜机的微机控制被引量:5
2003年
设计了磁控溅射 多弧镀膜机的微机控制系统 ,采用PLC可编程控制器与上位机进行数据传递和控制设备的控制方式。本微机控制系统中的真空镀膜机 ,设计了 3套孪生磁控、10套多弧和 8级工艺的过程控制 ,具有自动组合工艺和自控程序升级功能 ,从而实现多种工艺的镀膜要求。
陈玲玲李国卿黄开玉关秉羽汪思源
关键词:微机控制系统PLC可编程控制器真空镀膜机
对靶非平衡磁控溅射系统平面探针诊断被引量:1
2002年
对靶非平衡磁控溅射系统由两个相对磁控溅射靶和一个磁镜场约束系统构成 ,通过调整电磁线圈的激励电流可以控制磁镜场的空间分布状态 ,测量了合成磁场的空间分布状态。采用平面探针方法 ,在两靶中间位置测量了收集电流密度。结果表明 ,探针的收集电流密度随磁镜场的激励电流增加显著增大 ,在偏压 15 0V、工作气体 Ar、压力 0 .2 Pa和磁控溅射靶工作电流 3A时 ,收集的电流密度可以达到 5 .77m A / cm2 。
牟宗信李国卿关秉羽
关键词:等离子体镀膜技术
一种等离子体蒸发镀膜机
一种等离子体蒸发镀膜机,它涉及一种真空镀膜机。针对现有蒸发镀膜机镀膜质量难以保证的问题。本实用新型的进气管(2)的一端装在镀膜真空室体(1)内,镀膜真空室体(1)侧壁上设有室门(3),泵组(4)装在镀膜真空室体(1)上,...
关秉羽田修波
文献传递
脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN膜层性能的影响被引量:6
2008年
采用矩形平面大弧源离子镀技术在201奥氏体不锈钢基体表面制备TiN硬质薄膜,研究了脉冲偏压对TiN膜层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的增大,薄膜中大颗粒的数目先增加后减少,这是大颗粒受到离子拖曳力和电场力双重作用的结果.存在一个最佳的脉冲偏压,使得制备出的TiN膜层具有较高的I_(111)/I_(200)比例和较高的耐磨性.脉冲偏压为-300 V时制备的TiN膜层具有最好的综合性能.
林永清巩春志魏永强田修波杨士勤关秉羽于传跃
关键词:无机非金属材料离子镀脉冲偏压氮化钛耐磨性
脉冲磁过滤阴极弧等离子体制备四面体非晶碳膜被引量:1
2004年
介绍了脉冲磁过滤阴极电弧法制备四面体非晶碳膜 (tetrahedral am orphous carbon即 ta- C) ,并对制得的薄膜表面形貌、硬度、电阻等进行了测试。结果表明 ,脉冲磁过滤阴极电弧法制备的 ta- C膜有优良的性能。拉曼光谱分析显示 ,制得的薄膜为非晶结构 ,有明显的 sp3结构特征 ,符合 ta-
张成武李国卿柳翠关秉羽
关键词:拉曼光谱偏压类金刚石膜
共2页<12>
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