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陶卫
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5
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供职机构:
中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
理学
一般工业技术
电气工程
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合作作者
王蓉
中国科学院上海冶金研究所上海微...
章熙康
中国科学院上海冶金研究所上海微...
白国仁
中国科学院上海冶金研究所上海微...
吴自良
中国科学院上海冶金研究所上海微...
吴鸿
中国科学院上海冶金研究所上海微...
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MOCVD法...
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机构
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中国科学院
作者
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陶卫
1篇
温树林
1篇
谢雷鸣
1篇
刘玉琼
1篇
宗家庭
1篇
白国仁
1篇
施天生
1篇
朱健
1篇
章熙康
1篇
吴自良
1篇
王蓉
传媒
1篇
无机材料学报
年份
1篇
1993
1篇
1992
1篇
1990
共
5
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一种金属氧化物超导薄膜的制备方法
本发明是一种金属氧化物高温超导薄膜的制备技术。它用钇、钡、铜金属有机物或铋、锶、钙、铜金属有机物或铊、钙、钡、铜金属有机物作有机源,在改进的金属有机物化学气相沉积系统中,氧参与的情况下,以等离子激励,代替或增强热解反应,...
白国仁
陶卫
谢雷鸣
王蓉
宗家庭
章熙康
刘玉琼
文献传递
MoCVD法生长的YBCO/SrTiO_3超导薄膜的显微结构和缺陷
1992年
用 X 射线衍射和高分辨电镜研究了 MOCVD 法生长的 YBCO/SrTiO_3超导薄膜的显微结构和缺陷.发现在 T_c≈80K,J_c 近似10~4A/cm^2的 c 轴择优取向的薄膜中,存在着非晶型夹杂,杂相和其它取向的123相,它们可能是限制薄膜超导性能进一步提高和导至重复性差的主要原因.
朱健
陶卫
施天生
温树林
关键词:
高温超导
MOCVD
超导薄膜
金属氧化物超导薄膜的化学气相快速沉积工艺
一种用金属有机化学气相沉积技术(MOCVD)快速沉积金属氧化物超导薄膜的工艺,其特征在于维持反应室压力为66.5~133帕的低压,衬底温度700~850℃,有机源升华温度80~250℃,反应室氧分压为13.3~93帕,用...
陶卫
吴自良
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