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王保强

作品数:6 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇国内会议论文

领域

  • 6篇电子电信

主题

  • 4篇分子束
  • 4篇分子束外延
  • 3篇MM-HEM...
  • 2篇RTD
  • 2篇MBE生长
  • 2篇GAAS
  • 1篇电子迁移率
  • 1篇隧穿
  • 1篇器件尺寸
  • 1篇迁移率
  • 1篇共振隧穿
  • 1篇共振隧穿二极...
  • 1篇沟道
  • 1篇二极管
  • 1篇分子束外延技...
  • 1篇分子束外延生...
  • 1篇Δ掺杂
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体材料
  • 1篇GAAS衬底

机构

  • 6篇中国科学院

作者

  • 6篇王保强
  • 5篇曾一平
  • 4篇朱战平
  • 4篇崔利杰
  • 3篇林兰英
  • 3篇李灵霄
  • 2篇朱占平
  • 2篇张晓昕
  • 1篇张昉昉

传媒

  • 2篇第六届全国分...
  • 2篇第十二届全国...
  • 2篇中国电子学会...

年份

  • 4篇2002
  • 2篇2001
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
器件尺寸对RTD性能的影响
由于共振隧穿二极管(RTD)在超高频方面的优异性能,近年来得到了广泛的重视.本文通过对InGaAs/A1As材料的不同尺寸共振隧穿二极管(RTD)的研究,发现对于不同峰谷比和峰值电流密度,通过调整器件尺寸,可以得到符合性...
张晓昕曾一平王保强朱占平
关键词:分子束外延共振隧穿二极管器件尺寸
文献传递
In0.53Ga0.47As/In0.52Al0.48As MM-HEMT材料MBE生长
采用MBE生长技术,在半绝缘GaAs衬底上生长了大失配的In<,0.53>Ga<,0.47>As/In<,0.52>Al<,0.48>As MM-HEMT材料.对其进行了透射电镜(TEM)、PL谱以及Shhubnikov...
崔利杰王保强朱战平
关键词:分子束外延生长MM-HEMT材料GAAS衬底
文献传递
InGaAs沟道层中In组分含量对MM-HEMT材料性能的影响
采用MEB技术制备了一系列沟道层不同In组分含量的MM-HEMT材料.结果发现,随In组分含量的变化,材料的电子迁移率有一最佳值,对这一结果给予了解释.
崔利杰朱战平王保强张昉昉曾一平李灵霄林兰英
关键词:分子束外延技术MM-HEMT材料材料性能
文献传递
GaAs基MM-HEMT和InP基LM-HEMTMBE生长
本文采用MBE生长技术,比较了在InP衬底上生长晶格匹配的LM-HEMT与在GaAs衬底上生长大失配的MM-HEMT的材料的性能.结果发现,二者的电子迁移率与电子浓度都非常接近,这说明我们采用阶梯式变组分的方法生长MM-...
崔利杰曾一平王保强朱战平李灵霄林兰英
关键词:MBEHEMT电子迁移率
文献传递
SPACER层中的δ掺杂对RTD性能的影响
在这篇文章中,我们提出了在传统双势垒结构的SPACER层中增加一层δ掺杂的RTD结构,并成功生长出了峰谷比为2.8谷值电流密度为11.8kA/cm<'2>性能相对优良的RTD,并发现在一定范围内,增加δ掺杂的浓度可以提高...
张晓昕曾一平王保强朱占平
关键词:RTDΔ掺杂半导体材料
文献传递
GaAs基InAlAs/InGaAs MM-HEMT材料的零场自旋分裂
采用Shubnikov-de Hass(SdH)振荡测试技术研究了GaAs基InAlAs/InGaAs MM-HEMT材料的磁输运特性,并在窄带隙和掺杂浓度高的材料中发现了零场自旋分裂现象.
崔利杰曾一平王保强朱战平李灵霄林兰英
关键词:分子束外延
文献传递
共1页<1>
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