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余怀之

作品数:22 被引量:81H指数:6
供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
发文基金:国家科技攻关计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学生物学更多>>

文献类型

  • 15篇期刊文章
  • 4篇会议论文
  • 2篇科技成果
  • 1篇专利

领域

  • 15篇电子电信
  • 4篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 1篇生物学
  • 1篇化学工程

主题

  • 10篇ZNS
  • 6篇光学
  • 5篇光学材料
  • 5篇红外
  • 5篇红外光
  • 5篇红外光学
  • 4篇等静压
  • 4篇热等静压
  • 4篇硫化
  • 4篇硫化锌
  • 4篇红外光学材料
  • 4篇衬底
  • 3篇增透
  • 3篇增透膜
  • 3篇透过率
  • 3篇气相沉积
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇CVD
  • 3篇HIP

机构

  • 21篇北京有色金属...
  • 3篇北京科技大学
  • 1篇有色金属研究...
  • 1篇中国兵器工业...

作者

  • 22篇余怀之
  • 10篇苏小平
  • 9篇杨海
  • 5篇霍承松
  • 5篇鲁泥藕
  • 4篇张树玉
  • 4篇石红春
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  • 3篇刘建平
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传媒

  • 4篇稀有金属
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  • 2篇红外与激光工...
  • 2篇功能材料
  • 1篇Journa...
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇应用光学
  • 1篇第三届中国功...

年份

  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 4篇2008
  • 2篇2005
  • 2篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 1篇1998
  • 2篇1997
  • 3篇1994
  • 1篇1989
22 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
大口径多光谱ZnS头罩的研制被引量:8
2008年
多光谱ZnS是一种综合性能优异的红外光学材料,在长波红外及多波段红外探测成像系统中被广泛应用。化学气相沉积和热等静压后处理是制备多光谱ZnS材料的关键技术。介绍了化学气相沉积工艺和热等静压处理工艺制备多光谱ZnS的工艺原理及沉积大口径头罩的结构设计;报道了研制成功的270mm大口径多光谱ZnS头罩。经测试分析,头罩的全波段透过率均已接近理论水平、吸收系数≤0.01cm-1、折射指数均匀性达到2.2×10-5、硬度160kg/mm2、抗弯强度70MPa、断裂韧性1.0MPa·m1/2。与美国Rohm&Haas公司的多光谱ZnS产品相比,该头罩的主要性能指标与其处于同一水平。
霍承松杨海付利刚石红春鲁泥藕赵永田魏乃光孙加滢余怀之苏小平
关键词:大口径
红外光学材料硫化锌衬底上沉积金刚石膜的研究被引量:3
2005年
采用微波等离子体化学气相沉积法,在预镀陶瓷过渡层的硫化锌衬底上沉积金刚石膜。在以前的实验中,我们发现在陶瓷过渡层上沉积金刚石膜极其困难,但采用金刚石诱导形核方法后,我们已经在过渡层/硫化锌试样表面获得了很小面积(约1mm宽的环状区域)的金刚石形核。本文对前期的诱导形核工作进行了一定改进,目前已经使形核生长范围大大增加,沉积面积超过原来10倍。此外,本文对金刚石/过渡层/硫化锌试样的红外透过特性以及金刚石膜质量等进行了评价。
高旭辉吕反修魏俊俊李成明陈广超余怀之
关键词:金刚石膜
半导体材料的红外光学特性及应用被引量:15
1997年
综述了半导体材料的红外光学性能及相关的力学、热学性能,讨论了影响红外透过率的主要因素。
苏小平余怀之褚乃林褚乃林
关键词:半导体材料红外光学
ZnSe基底7~14μm波段宽带增透膜被引量:5
2009年
简要叙述了7~14μm波段红外增透膜的膜料选择以及硒化锌基底上高性能红外增透膜的设计和工艺研究。介绍了离子辅助沉积技术沉积该膜的的工艺过程。给出了用该方法制备的7—14μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线,其峰值透过率高达98%以上,在设计波段范围内平均透过率大于97%,膜层附着性能好,光机性能稳定。这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义。
闫兰琴张树玉黎建明杨海苏小平余怀之刘嘉禾刘伟
ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究被引量:2
2009年
用氮氧化铪薄膜作为CVDZnS衬底的保护膜、由YbF3和ZnS组成的增透膜系分别在CVDZnS的两面制备了保护膜和增透膜,研究了镀膜前后CVDZnS在8-12μm波段的光学性能,单面镀制增透膜之后CVDZnS在此波段的平均透过率由未镀膜前的74%提高到了82%,峰值透过率大于83.5%。在CVDZnS上镀制HfON保护膜后,其8-12μm波段透过率没有明显的降低,同时硬度测试表明HfON薄膜的硬度约为11.6 GPa,远大于衬底CVDZnS的硬度。胶带实验和泡水试验表明,制备的保护膜和增透膜均和衬底有很好的附着力。
刘伟张树玉闫兰琴袁果刘嘉禾黎建明杨海苏小平余怀之
关键词:增透膜
在预涂陶瓷过渡层的多谱段ZnS衬底上沉积金刚石膜的探索研究被引量:12
2004年
本文采用真空电子束蒸镀技术在多谱段ZnS衬底上沉积了适合金刚石膜沉积的致密陶瓷过渡层,并利用微波等离子体CVD金刚石膜低温沉积技术进行了金刚石膜沉积研究。发现在陶瓷过渡层上的金刚石形核极其困难,其原因可能是陶瓷涂层在沉积过程中龟裂导致ZnS蒸汽扩散逸出干扰金刚石形核所致。本文采用诱导形核技术在过渡层/ZnS试样表面观察到极高密度(1010/cm2)的金刚石形核,并对金刚石/过渡层/ZnS试样的红外透过特性进行了评价。
吕反修高旭辉郭会斌陈广超李成明唐伟忠佟玉梅余怀之程宏范杨海
关键词:硫化锌微波等离子体ZNS衬底衬底材料
多光谱ZnS的研制
S是重要的长波红外窗口材料,该文描述了用CVD方法制备ZnS的厚度均匀性,红外及可见光透过率,特别是多光谱ZnS的光学性能,并对实验结果进行了讨论。
余怀之刘建平郑岳华亓宇贾景彬
关键词:红外光学材料多光谱
热等静压(HIP)过程对CVD ZnS显微结构的影响
本文通过测量热等静压(HIP)前后CVD ZnS的光学透过率,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVD ZnS 和经热等静压(HIP)处理后的CVD ZnS 的显微结构和晶体结构进行了分析。根据热等静压(H...
宋睿丰余怀之霍承松黄万才鲁泥藕
关键词:热等静压透过率
文献传递
ZnS上金刚石膜的过渡层设计和附着力研究被引量:6
2008年
CVD ZnS是中长波前视红外窗口和整流罩的合适材料,文中从折射率、热应力、透射波段和附着力等方面考虑,由实验设计出HfO2/非晶膜双层结构作为ZnS与金刚石保护膜间的过渡层,采用射频反应磁控溅射技术在ZnS表面制备过渡膜层,并采用划痕法研究了薄膜的显微结构对其与衬底间附着力的影响。结果表明,金刚石能够在HfO2/非晶膜过渡层上形核、生长,得到优质的保护膜,同时过渡层也缓解了金刚石膜与ZnS衬底间由于热膨胀系数的较大差异而引起的膜层脱落问题,单面沉积过渡层的ZnS在2~12μm范围具有增透膜的作用。与AlN/非晶膜组成的过渡层相比,HfO2/非晶膜组成的过渡层具有更小的残余应力。在典型实验条件下,该过渡层与ZnS衬底附着性良好,研究发现薄膜的显微结构对附着力的大小有重要影响,形成细小致密的柱状纤维结构,有利于提高附着力。
郝鹏张树玉黎建明杨海苏小平余怀之刘伟贺琪
关键词:过渡层ZNS金刚石膜附着力
离子束技术
1989年
离子束作为材料合成、加工技术在飞速发展,有着巨大的科学上和工业上的意义。本文就离子束技术目前的发展及其在某些重要领域中的应用作一概括介绍。
余怀之
关键词:离子注入半导体金属
共3页<123>
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