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向鹏飞

作品数：13 被引量：13H指数：2
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

领域

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主题

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机构

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资助

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地区

  • 23个重庆市
共 23 条 记 录，以下是 1-10
袁安波
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨修伟
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 选择比 光刻 阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高建威
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 选择比 刻蚀 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邓涛
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 光刻工艺 ITO薄膜 选择比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李仁豪
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 TDI 读出电路 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD TDI 高分辨率 可见光CCD 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖乃镘
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曲鹏程
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 选择比 刻蚀 图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈红兵
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD CCD器件 电荷耦合器件 CCD图像传感器 成像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
阙蔺兰
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：多晶硅 LPCVD CCD 电荷耦合器件 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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