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张卫红

作品数：5 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
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共 18 条 记 录，以下是 1-10
张建宏
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束曝光 电子束 电子束光刻 版图 集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李友
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束曝光 超低功耗 非挥发性存储器 降低功耗 电极结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宝钦
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王冠亚
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：衍射光栅 大高宽比 电子束光刻 芯片 入射光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李新涛
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：高分辨率 分辨率 光刻系统 光刻胶 激光直写
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云翔
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：纳米级 抗蚀剂 电子束曝光 电子束光刻 分辨率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙世兵
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 浮栅 非挥发性 电子束直写
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢常青
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 光刻 存储器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任黎明
供职机构：北京大学
研究主题：石墨烯 金属 纳电子学 电子束曝光 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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