您的位置： 专家智库 > >

张继静

作品数：16 被引量：18H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术电气工程更多>>

合作作者

领域

  • 18个电子电信
  • 9个自动化与计算...
  • 7个电气工程
  • 4个机械工程
  • 2个一般工业技术
  • 2个自然科学总论
  • 1个金属学及工艺
  • 1个理学

主题

  • 8个半导体
  • 7个电机
  • 7个半导体设备
  • 6个CMP设备
  • 5个运动控制
  • 5个温度
  • 5个温度控制
  • 5个控制系统
  • 4个图像
  • 4个平坦化
  • 4个化学机械抛光
  • 4个机械抛光
  • 4个工作台
  • 3个优化设计
  • 3个有限元
  • 3个有限元分析
  • 3个抛光
  • 3个清洗液
  • 3个主轴
  • 3个自学习

机构

  • 18个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个中国电子科技...
  • 1个北京中电科电...

资助

  • 2个国家科技重大...

传媒

  • 18个电子工业专用...
  • 2个科技传播
  • 2个科技创新与应...
  • 1个制造技术与机...
  • 1个科技资讯
  • 1个现代制造技术...
  • 1个金属加工（冷...
  • 1个自动化应用
  • 1个中文科技期刊...
  • 1个2010年中...
  • 1个2010中国...
共 18 条 记 录，以下是 1-10
连军莉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：超声扫描 图像 印刷电路板 显微镜 无损检测
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕荣华
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：声学 切割机 工作台 误差分析 自动切割机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
魏鹏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：超声扫描 厚度测量 超声设备 超声 金属封装
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋婉贞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：全自动 太阳能 伺服控制 PLC 半导体设备
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄晓鹏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：超声扫描 超声波 闭环控制 分离式 高压源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张金环
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：SVN 开发管理 软件管理 超声波清洗 超声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李金涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：快速测定方法 快速测定法 力常数 电机 直线电机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田洪涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：半导体设备 多线切割机 SVN 开发管理 软件管理
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘鸿儒
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：清洗机 清洗槽 噪声控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共2页<12>
聚类工具0