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杨晟

作品数：13 被引量：106H指数：6
供职机构：武汉理工大学更多>>
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合作作者

领域

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资助

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传媒

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  • 2个光谱实验室
  • 2个光电子．激光
  • 2个燕山大学学报

地区

  • 15个湖北省
共 15 条 记 录，以下是 1-10
赵修建
供职机构：武汉理工大学
研究主题：TIO 硫系玻璃 SUB 二氧化钒 二氧化钛
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏冬林
供职机构：武汉理工大学
研究主题：非晶硅薄膜 多晶硅薄膜 纳米晶 电沉积 太阳能电池
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐慢
供职机构：武汉工程大学
研究主题：碳化硅 荧光粉 碳化硅粉体 发光性能 碳化硅陶瓷
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王树林
供职机构：武汉工程大学
研究主题：碳化硅 ITO薄膜 工艺矿物学 碳化硅陶瓷 ITO
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
倪佳苗
供职机构：武汉理工大学
研究主题：SNO 氧化铈 膜层 镀膜玻璃 射频磁控溅射法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周学东
供职机构：武汉理工大学
研究主题：二氧化钒 陶瓷 陶瓷色料 性能研究 钒锆蓝色料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
肜建娜
供职机构：武汉理工大学材料科学与工程学院硅酸盐材料工程教育部重点实验室
研究主题：TIO 锐钛矿 水溶胶 锐钛矿型 光催化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王慧芳
供职机构：武汉理工大学材料科学与工程学院硅酸盐材料工程教育部重点实验室
研究主题：非晶硅薄膜 多晶硅薄膜 金属诱导晶化 光学性能 等离子体增强化学气相沉积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郝江波
供职机构：武汉理工大学
研究主题：非晶硅薄膜 PECVD法制备 光学 折射率 TIO
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
潘震
供职机构：武汉理工大学
研究主题：磁控溅射 氢化非晶硅薄膜 磁控溅射法 分布式 光纤光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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