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高宝红
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72
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H指数:4
供职机构:
河北工业大学
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合作作者
刘玉岭
河北工业大学电气信息学院
檀柏梅
河北工业大学电子信息工程学院
王辰伟
河北工业大学电子信息工程学院
牛新环
河北工业大学电子信息工程学院
黄妍妍
河北工业大学信息工程学院微电子...
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刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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檀柏梅
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
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王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
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牛新环
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
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王如
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 化学机械抛光 SM 磁性能 生物医学材料
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黄妍妍
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 外延层 气相 液晶屏 液晶
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孙鸣
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 去除速率
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何彦刚
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 阻挡层 化学机械抛光 抛光表面 水溶液聚合
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周建伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
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王娟
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 硅溶胶 抛光液 超大规模集成电路
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