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赵铃莉

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供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
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机构

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地区

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李兵
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：X射线光刻 掩模 干法刻蚀 深亚微米 X射线
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胥兴才
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：X射线光刻 LPCVD 掩模 氮化硅 光刻技术
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陈大鹏
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：半导体器件 刻蚀 沟道 焦平面阵列 MEMS
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韩敬东
供职机构：中国科学院
研究主题：X射线光刻 LPCVD 氮化硅 掩模 氮化硅膜
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谢常青
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 光刻 存储器
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叶甜春
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：X射线光刻 沟道 半导体器件 版图 衬底
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董立军
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：沟道 氮化硅薄膜 红外焦平面阵列 纳米孔 MEMS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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