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佟丽英
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H指数:4
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中国电子科技集团公司
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合作作者
史继祥
中国电子科技集团公司第四十六研...
赵权
中国电子科技集团公司
王聪
中国电子科技集团公司第四十六研...
高丹
中国电子科技集团公司
杨洪星
中国电子科技集团公司
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赵权
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:单晶片 锗 锗单晶 晶片 抛光片
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史继祥
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:少子寿命 电阻率 硼 晶向 Γ辐照
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高丹
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:抛光片 腐蚀坑 硅单晶 画格 金相显微镜
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杨洪星
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
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所获资助
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王聪
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:硼 扩散 AL 染色液 P
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高丹
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:LPCVD 封片 二氧化硅 低压化学气相淀积 沉积温度
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吕菲
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:单晶片 锗 晶片 清洗工艺 抛光液
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张伟才
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:硅单晶 锗 单晶片 晶片 硅片
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刘春香
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:单晶片 抛光片 抛光液 抛光 砷化镓
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张继荣
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:硅单晶 电阻率 少子寿命 DLY 校准方法
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