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盛玫

作品数：6 被引量：56H指数：3
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
相关领域：金属学及工艺电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

领域

  • 9个电子电信
  • 5个金属学及工艺
  • 5个理学
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  • 2个电气工程
  • 1个经济管理
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  • 1个环境科学与工...
  • 1个医药卫生

主题

  • 8个封装
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  • 4个塑料封装
  • 4个贴装
  • 4个热循环
  • 3个钎焊
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机构

  • 9个中国科学院上...
  • 1个中国科学院

资助

  • 2个国家重点基础...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个中国科学院科...

传媒

  • 6个功能材料与器...
  • 4个金属学报
  • 3个材料研究学报
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  • 1个材料科学进展
  • 1个自然科学进展...
  • 1个第二届中国功...
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  • 1个’94秋季中...

地区

  • 9个上海市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
肖克来提
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题：表面贴装 剪切强度 时效 焊点 微结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗乐
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题：SN 钎焊 微结构 NB 超导
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杜黎光
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题：时效 钎焊 扩散 表面贴装 SNAGCU
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈翔
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题：PECVD 碳化硅薄膜 化学气相 碳化硅 塑料封装
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐立强
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题：ICP-AES测定 PECVD 微量元素 食品 电感耦合等离子体发射光谱法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姜利军
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题：PECVD 碳化硅薄膜 氮化硅薄膜 集成电路 应力
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵润涛
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题：PECVD 氮化硅薄膜 集成电路 应力 防水性能
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙志国
供职机构：中国科学院上海冶金研究所
研究主题：表面贴装 SNAGCU 剪切强度 热循环 电子封装
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王旭洪
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题：磁致伸缩 PECVD 磁致伸缩材料 压磁材料 碳化硅薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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