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文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇等静压
  • 1篇低温共烧陶瓷
  • 1篇真空
  • 1篇真空封装
  • 1篇品质因数
  • 1篇热声
  • 1篇吸气剂
  • 1篇控制系统
  • 1篇甲酸
  • 1篇共晶
  • 1篇封装
  • 1篇PLC
  • 1篇LTCC
  • 1篇MEMS器件
  • 1篇层压

机构

  • 4篇中国电子科技...
  • 1篇太原理工大学

作者

  • 4篇张建宏
  • 2篇杨凯骏
  • 2篇王宁
  • 2篇井文丽
  • 1篇董永谦
  • 1篇张燕
  • 1篇李晓燕
  • 1篇王贵平
  • 1篇冯哲
  • 1篇田亚炜
  • 1篇王学军

传媒

  • 3篇电子工业专用...
  • 1篇电子工艺技术

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2010
  • 1篇2007
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
热声焊机控制系统的开发被引量:2
2007年
热声焊机是微电子封装领域的关键设备,热声焊技术可实现金丝的高质量焊接。简要介绍了热声焊机的功能、结构,阐述了设计中的控制原理和方法,绘制了控制框图和软件流程图,并提供了一些试验的数据。
董永谦王贵平田亚炜张建宏张燕
关键词:控制系统PLC
LTCC层压工艺及设备被引量:3
2012年
层压是LTCC工艺中继切片、冲孔、填充、印刷、叠片之后的工序,层压之后再经过热切、烧结成为LTCC成品。介绍了LTCC层压的原理和工艺及3种加压曲线。根据LTCC层压工艺要求,阐述了层压机的研发。
李晓燕冯哲张建宏
MEMS器件真空封装工艺研究被引量:1
2010年
MEMS器件的真空封装是整个工艺过程中的难点,封装的质量决定着整个器件的质量和使用寿命。现有的封装工艺,封装后器件内部真空度不能有效保持,是需要在真空下工作的器件的瓶颈。随着吸气剂的广泛使用,使MEMS器件的真空度保持能力大大提高,但现有的封装工艺设备不能满足吸气剂的激活条件。分析了空气阻尼对MEMS器件品质因数的影响,提出一种将现有的真空共晶设备的改进方法,使之能应用于使用吸气剂的MEMS器件的真空封装工艺。
杨凯骏王学军井文丽张建宏王宁
关键词:MEMS器件真空封装吸气剂品质因数
真空共晶设备的改进对共晶焊接质量的影响被引量:8
2010年
共晶焊接质量对芯片的可靠性及寿命影响很大。在这方面,通过改进后的真空共晶设备比改进前更具有优势。分析了真空环境对共晶焊接的影响,在原有设备增加了分子泵的情况下,实现无空洞焊接。对甲酸气体保护下的In焊料焊接进行了分析,并结合实际经验给出合理的工艺曲线,证实了在真空室加入甲酸气体的保护下,可以把In焊料表面的氧化层去除,使焊料在浸润性方面具有明显的优势。
张建宏王宁杨凯骏井文丽
关键词:真空共晶甲酸
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