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李中杰

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：上海交通大学微纳科学技术研究院更多>>
发文基金：上海市科委纳米专项基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇紫外纳米压印
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米尺寸
  • 1篇纳米压印
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻胶

机构

  • 1篇上海交通大学

作者

  • 1篇印杰
  • 1篇王庆康
  • 1篇姜学松
  • 1篇林宏
  • 1篇李中杰

传媒

  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
新型高抗粘紫外纳米压印光刻胶的工艺研究被引量：2
2010年
为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完成。实验得到光刻胶掩膜膜厚为1.21μm,结构尺寸深246nm,周期937.5nm。实验结果表明,在没有对石英模板表面进行修饰的情况下,该光刻胶依然表现出高可靠性和高图形转移分辨率,有效减少了紫外纳米压印工艺中的模板抗粘修饰的工艺步骤。
李中杰林宏姜学松王庆康印杰
关键词：紫外纳米压印
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