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杨春勇

作品数：1 被引量：27H指数：1
供职机构：常州工学院更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇电化学
  • 1篇电化学阻抗
  • 1篇电化学阻抗谱
  • 1篇有机硅
  • 1篇有机硅烷
  • 1篇杂化膜
  • 1篇阻抗谱
  • 1篇铈盐
  • 1篇极化曲线
  • 1篇NACL溶液

机构

  • 1篇常州工学院

作者

  • 1篇张金涛
  • 1篇李春东
  • 1篇潘亮
  • 1篇杨春勇

传媒

  • 1篇金属学报

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
2A12铝合金表面铈盐掺杂硅烷杂化膜在3.5%NaCl溶液中耐蚀性能的电化学研究被引量：27
2008年
采用溶胶-凝胶法,以γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(γ-GPTMS)和正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,在2A12铝合金表面制备了稀土铈盐(Ce(NO_3)_3)掺杂的有机-无机杂化膜,研究了铈盐掺杂浓度和涂层固化温度等工艺条件.通过极化曲线和电化学阻抗谱(EIS),比较了掺杂与未掺杂有机-无机硅烷杂化膜、铬酸盐转化膜和RE转化膜在3.5%NaCl(质量分数)溶液中的耐腐蚀性能.测试结果均表明,铈盐掺杂硅烷杂化膜的极化电阻比掺杂前增大了约13倍,并显著高于铬酸盐转化膜和RE转化膜.
张金涛杨春勇潘亮李春东
关键词：铈盐有机硅烷极化曲线电化学阻抗谱
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共1页<1>
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