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鲁森

作品数:27 被引量:50H指数:5
供职机构:清华大学更多>>
发文基金:国家科技重大专项国家自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
相关领域:机械工程电子电信理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 14篇专利
  • 13篇期刊文章

领域

  • 11篇机械工程
  • 7篇电子电信
  • 6篇理学
  • 5篇自动化与计算...
  • 1篇电气工程

主题

  • 10篇光刻
  • 6篇相位锁定
  • 5篇电机
  • 5篇光刻机
  • 5篇光栅
  • 5篇干涉光刻
  • 4篇条纹
  • 4篇工件台
  • 4篇干涉条纹
  • 4篇感器
  • 4篇传感
  • 4篇传感器
  • 3篇声光
  • 3篇声光调制
  • 3篇声光调制器
  • 3篇平面电机
  • 3篇前馈
  • 3篇微动台
  • 3篇光调制
  • 3篇光调制器

机构

  • 27篇清华大学

作者

  • 27篇杨开明
  • 27篇鲁森
  • 25篇朱煜
  • 15篇成荣
  • 15篇张鸣
  • 10篇刘涛
  • 10篇李鑫
  • 9篇王磊杰
  • 1篇胡楚雄

传媒

  • 4篇光学精密工程
  • 3篇清华大学学报...
  • 3篇光学学报
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇光子学报
  • 1篇中国电机工程...

年份

  • 1篇2024
  • 6篇2023
  • 1篇2022
  • 7篇2021
  • 3篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 5篇2017
  • 1篇2015
27 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
干涉条纹相位锁定系统被引量:3
2017年
干涉曝光系统中干涉条纹的相位漂移会导致曝光对比度降低,为了有效抑制相位漂移,利用声光调制器对干涉光频率进行实时调制。分析了条纹漂移的特点,指出了主要干扰源是0~5 Hz的空气扰动。应用数值分析法得到了条纹漂移量与曝光对比度的关系曲线,并以此为依据提出了条纹锁定精度的目标值。针对所要达到的锁定精度,给出了系统硬件的选型方法,搭建了基于RTX的干涉条纹相位锁定系统。利用闭环辨识的方法得到了系统的参数模型,完成了反馈控制器的设计,最终实现了实时锁定条纹相位的功能。实验结果表明,在400Hz的控制频率下,干涉锁定系统能够有效抑制0~5Hz的低频扰动,干涉条纹相位漂移的3σ值可以控制在±0.04个条纹周期内,满足干涉光刻的曝光对比度要求。
鲁森杨开明朱煜王磊杰张鸣
关键词:相位锁定声光调制器RTX
一种平面电机运动控制方法、装置及系统
本发明公开一种平面电机运动控制方法、装置及系统,方法包括:发送运动指令给控制模块,控制模块控制平面电机运动;获取动子的位置的测量数据,将运动指令与测量数据比较得到位置误差e,对测量数据差分得到速度v、加速度a、jerk、...
杨开明朱煜鲁森雷声成荣李鑫刘涛
文献传递
扫描干涉光刻装置
本发明提供一种扫描干涉光刻装置,包括:用于发射激光的激光器;用于将激光分束为相干光的分束器;光纤,光纤的两个出射接口对称设置;用于调整两个出射接口的光束干涉角调整装置,两个出射接口均位于光束干涉角调整装置上;以及曝光基底...
鲁森朱煜曹耒杨开明张鸣成荣
干扰磁场下电机正弦误差的出力补偿方法及装置
本发明提供一种干扰磁场下电机正弦误差的出力补偿方法及装置,其中的方法包括:采集电机在匀速阶段的控制信号以及位移信号;基于控制信号和位移信号创建空间域正余弦信号,并将正余弦信号转换为对应的时域信号;根据时域信号创建补偿矩阵...
朱煜杨开明刘涛成荣李鑫鲁森雷声
文献传递
用于晶圆键合的对准标记定位算法被引量:6
2021年
对准标记精确定位是晶圆键合精度实现的关键,为了提高对准标记定位算法的精度、实时性及适应性,提出了一种基于边缘检测拟合定位的高精度对准标记定位算法。该方法结合分级金字塔模型对对准标记进行逐级定位,获得像素级的目标区域粗定位结果,根据目标区域粗定位结果,结合Canny检测器与改进的高斯拟合法,对对准标记的亚像素轮廓进行拟合,在此基础上结合中心对称的对准标记特征,利用改进后的最小二乘法快速拟合对准标记的中心位置,实现对准标记的精确定位。通过实验验证了该方法的有效性,实验结果表明,提出的对准标记定位算法在快速定位目标区域的同时,可实现约0.06μm的重复定位误差,满足了晶圆键合对准的精度、实时性和适应性的需求。
鲁沛昕杨开明鲁森鲁森
关键词:亚像素
基于光刻机的传感器标定方法及系统
本发明提供一种基于光刻机的传感器标定方法及系统,包括:安装传感器于光刻机的工件台测量工件台的位移,将位移转换为电压,通过模/数转换器转换成数字信号;在传感器测量工件台的位移之前,向模/数转换器输入设定范围的电压,获得多个...
朱煜杨开明雷声成荣鲁森李鑫刘涛
文献传递
扫描干涉场曝光中光栅掩模槽形轮廓的预测被引量:1
2018年
根据扫描干涉场曝光的特点,针对光刻胶层内曝光量的驻波效应,建立了动态曝光模型。基于快速推进法建立了显影模型,得到了光栅掩模槽形的演变规律。为减弱驻波效应的影响,提出了一种抗反射层最优厚度的设计方法。仿真结果表明,建立的曝光和显影模型能有效预测光栅掩模的槽形轮廓,同时可优化抗反射膜的厚度。
鲁森杨开明朱煜王磊杰张鸣
关键词:光栅
基于远场干涉的扫描干涉场曝光光学系统设计与分析被引量:3
2018年
高斯光在远离束腰位置能得到直线度极高的干涉条纹,基于此提出了一种基于远场干涉的新型扫描干涉场曝光(SBIL)系统。建立了条纹相位非线性误差关于高斯光束腰半径、入射角度及束腰到基底距离的解析表达式。通过数值仿真,详细分析了条纹相位非线性误差与上述参数的关系。研究结果表明,该光学系统可以有效地将条纹相位非线性误差限制在纳米量级,并具有光路简洁、装调误差宽容度较高的优点。适当缩短束腰到基底的距离,可有效解决曝光光斑边界处条纹相位非线性误差恶化的问题。
鲁森杨开明朱煜王磊杰张鸣
关键词:衍射干涉条纹空间滤波器菲涅耳衍射
基于光刻机双工件台运动系统的垂向保护方法及装置
本发明公开一种基于光刻机双工件台运动系统的垂向保护方法及装置。方法包括:在微动台下方设有电涡流传感器,以及水平位移测量机构。根据被测量点与电涡流传感器基准点之间的距离,以及电涡流传感器基准点的坐标,计算得出微动台下表面各...
杨开明成荣朱煜张鸣雷声刘涛鲁森李鑫
光路调节装置及干涉光刻设备
本发明涉及微纳结构制造技术领域,提供一种光路调节装置及干涉光刻设备。光路调节装置包括第一调节臂、第二调节臂、第一牵引件、第二牵引件和驱动机构;第一调节臂和第二调节臂分别设置有安装机构;第一牵引件的一端与第一调节臂连接,另...
鲁森朱翼先曹耒杨开明张鸣成荣
共3页<123>
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