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杨文豪

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：河南大学物理与电子学院更多>>
发文基金：河南省高校科技创新团队支持计划更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电学性能
  • 1篇透明导电
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射压强
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性能
  • 1篇SNO2薄膜
  • 1篇SB

机构

  • 1篇河南大学

作者

  • 1篇丁玲红
  • 1篇于仕辉
  • 1篇张伟风
  • 1篇杨文豪

传媒

  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
溅射压强对ATO透明导电薄膜性能的影响被引量：3
2014年
利用射频磁控溅射法在石英衬底上制备得到高质量的锑掺杂二氧化锡(ATO)透明导电薄膜,研究了溅射压强对ATO薄膜的结构和光电性能的影响。结果表明:溅射压强对ATO薄膜的相结构、择优生长取向和结晶质量均有一定的影响。所制薄膜的电阻率随着溅射压强的增加有先减小后增大的规律,并在溅射压强为1 Pa时取得最小值(1.99×10–3?·cm)。不同溅射压强下制备的薄膜在可见光区的透过率均在85%以上。
杨啸威杨文豪于仕辉丁玲红张伟风
关键词：溅射压强光学性能电学性能透明导电
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