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张鸿儒

作品数：2 被引量：4H指数：1
供职机构：中国地质大学（北京）材料科学与工程学院更多>>
发文基金：国家大学生创新性实验计划更多>>
相关领域：理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇针孔
  • 1篇针孔缺陷
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇溅射
  • 1篇光谱
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇硅
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇中国地质大学...

作者

  • 1篇郝会颖
  • 1篇黄强
  • 1篇袁珂
  • 1篇张鸿儒

传媒

  • 1篇化工新型材料

年份

  • 1篇2009
共 2 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
射频磁控溅射硅薄膜的制备与结构研究被引量：3
2009年
采用拉曼光谱、光学显微镜、透射电镜研究了不同衬底温度、腔体气压对射频磁控溅射法制备的不含氢硅薄膜相结构和形貌的影响。结果表明430℃时薄膜中出现微晶相,平均晶粒尺寸2.8nm。腔体内杂质及衬底表面的显微缺陷会诱发薄膜针孔、凹坑等缺陷的产生。低温、高压会导致薄膜中空洞缺陷的密集。
袁珂郝会颖黄强张鸿儒
关键词：射频磁控溅射硅薄膜拉曼光谱针孔缺陷
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共1页<1>
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