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钟艳

作品数：1 被引量：8H指数：1
供职机构：清华大学信息科学技术学院微电子学研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇微电子
  • 1篇微电子机械
  • 1篇微电子机械系...
  • 1篇显影
  • 1篇DFP
  • 1篇MEMS
  • 1篇丙烯
  • 1篇丙烯酸
  • 1篇丙烯酸酯

机构

  • 1篇湖南大学
  • 1篇清华大学

作者

  • 1篇王太宏
  • 1篇刘泽文
  • 1篇秦健
  • 1篇钟艳

传媒

  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
丙烯酸酯干膜光刻胶曝光特性及其应用被引量：8
2011年
对一种新型的丙烯酸酯干膜光刻胶(DFP)的曝光及显影特性进行了研究,采用该干胶制作出微沟道结构,进行微流道实验研究。在4英寸(1英寸=2.54cm)硅片上实现了厚度为50μm的干胶完好贴敷,从而解决了干胶在硅衬底上的贴敷问题。利用改变曝光时间设定曝光剂量梯度的方法,研究了干胶的曝光特性。采用不同质量分数的显影液,研究干胶的显影特性,获得了优化的结果。采用干胶系统进行了微流体沟道制作,得到了侧壁陡直的微沟道结构。实验发现,65mJ/cm2及以上的曝光剂量可使厚度为50μm的干膜光刻胶充分曝光并获得形貌效果良好的微结构,质量分数为5%的显影液具有最快的显影速度。
秦健刘泽文钟艳王太宏
关键词：显影
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