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刘玮玮

作品数：1 被引量：6H指数：1
供职机构：北京工业大学材料科学与工程学院新型功能材料教育部重点实验室更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇气相沉积
  • 1篇温度
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇钨
  • 1篇CVD
  • 1篇沉积层

机构

  • 1篇北京工业大学

作者

  • 1篇常靖华
  • 1篇马捷
  • 1篇王从曾
  • 1篇刘玮玮

传媒

  • 1篇中国表面工程

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
CVD温度对钨沉积层组织性能的影响被引量：6
2008年
以WF6和H2为反应气体,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钨涂层。分析研究了沉积温度对沉积层组织、结构、表面形貌及涂层致密度、硬度、耐磨性能的影响。试验结果表明:随着温度升高,沉积速率加快,涂层组织逐渐由柱状晶转变为树枝晶,表面粗糙度显著增加,膜层致密度、硬度下降,耐磨性降低。化学气相沉积钨的最佳工艺温度范围为550～650℃。
马捷刘玮玮王从曾常靖华
关键词：化学气相沉积钨
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