徐磊
- 作品数：2 被引量：4H指数：1
- 供职机构：景德镇陶瓷学院机械电子工程学院更多>>
- 相关领域：化学工程更多>>
- 基于CFD研究釉浆压力对陶瓷静电施釉的影响被引量：1
- 2015年
- 针对陶瓷在施釉过程中,制品表面釉滴分布不均匀的问题,采用欧拉-拉格朗日法构建了在静电场力作用下的DPM模型,并基于CFD软件分析了1.5 bar、2.5 bar和5 bar三种压力情况下静电施釉过程中釉滴的粒径和运动速度分布情况。结果表明:在静电场作用和不同的压力作用下,可使得喷枪的雾化效果发生改变,能得到不同大小、不同均匀程度的釉滴粒径,并能获得不同釉滴的运动速度和分布。其中在施加2.5 bar压力条件下釉滴粒径均匀,釉浆雾化的效果最好。
- 徐晗吴琦韩文徐磊
- 关键词：静电场施釉CFD
- 高温还原茶叶末釉的研制被引量：3
- 2015年
- 以钾长石、钠长石、石英、高岭土、方解石、烧滑石、碳酸钡、氧化锌为原料,以氧化铁为结晶剂和着色剂,研究配方组成及工艺参数对茶叶末结晶釉的影响,得出配方组成(wt.%):Si O2:66.51,Al2O3:7.05,Fe2O3:4.42,K2O:2.61,Na2O:3.43,Ca O:3.97,Mg O:4.07,Ba O:1.58,Zn O:0.95,Ti O2:0.02,烧失:5.40,万孔筛余为0.05-0.1%,施釉厚度为1.5-2.0 mm时,可得釉色黄棕带绿,圆点状墨色晶体均匀分布的茶叶末釉。
- 徐磊缪松兰虞澎澎魏恒勇李星
- 关键词：工艺参数
