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刘子丽

作品数：3 被引量：7H指数：2
供职机构：西南民族大学电气信息工程学院更多>>
相关领域：理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇直流磁控
  • 2篇直流磁控溅射
  • 2篇基片
  • 2篇基片温度
  • 2篇溅射
  • 2篇TIO_2薄...
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇氧流量
  • 1篇微观结构
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇TIO2薄膜

机构

  • 2篇电子科技大学
  • 2篇西南民族大学

作者

  • 2篇孙继伟
  • 2篇肖峻
  • 2篇蒋向东
  • 2篇刘子丽

传媒

  • 1篇电子器件
  • 1篇西南民族大学...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
共 3 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
直流磁控溅射法制备TiO_2薄膜的研究被引量：5
2009年
论术采用直流磁控溅射法制备TiO2薄膜的实验研究.研究了氧流量、基片温度对制备TiO2薄膜的影响,并测量了薄膜的晶相结构和表面形貌,结果表明制备出了具有锐钛矿晶体结构的TiO2薄膜.
刘子丽肖峻蒋向东孙继伟
关键词：直流磁控溅射氧流量基片温度
基片温度对TiO_2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响被引量：2
2010年
为了制备具有紫外光电特性的TiO2薄膜,采用直流磁控溅射(DC)的方法在不同温度的玻璃基片上制备了TiO2薄膜。通过用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X-射线能谱仪(EDS)测试薄膜的晶体结构、表面形貌和薄膜组成成分。结果表明:当基片温度在250℃及以上时,制备出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜,并且有较好化学计量比。TiO2薄膜电阻在紫外光照射下的响应时间随基片温度的升高而减少。
刘子丽肖峻蒋向东孙继伟
关键词：TIO2薄膜基片温度直流磁控溅射
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共1页<1>
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