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杨国锋

作品数:4 被引量:9H指数:2
供职机构:西安工业大学光电工程学院更多>>
发文基金:西安工业大学校长基金更多>>
相关领域:电子电信航空宇航科学技术理学机械工程更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇理学

主题

  • 1篇多光束干涉
  • 1篇损伤阈值
  • 1篇球心
  • 1篇误差分析
  • 1篇激光
  • 1篇激光打标
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数
  • 1篇光斑
  • 1篇光斑尺寸
  • 1篇光刻
  • 1篇光强
  • 1篇光束
  • 1篇光学
  • 1篇光学系统
  • 1篇光学系统设计
  • 1篇红外
  • 1篇红外激光
  • 1篇干涉光刻
  • 1篇高斯

机构

  • 4篇西安工业大学
  • 1篇西安北方光电...

作者

  • 4篇蒋世磊
  • 4篇孙国斌
  • 4篇杨国锋
  • 3篇张锦
  • 1篇杭凌侠
  • 1篇弥谦
  • 1篇马丽娜
  • 1篇计玮
  • 1篇王三龙
  • 1篇雷震

传媒

  • 2篇光学仪器
  • 1篇光子学报
  • 1篇光学与光电技...

年份

  • 1篇2025
  • 3篇2015
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
基于Delphi的光学中心偏误差分析软件研制
2015年
根据光学系统的装校工艺过程,应用开发工具Delphi,研制了用于光学系统装校的光学系统中心偏误差分析软件。该软件提供了光学元件球心像位置计算和光学中心偏误差分析的功能,人机界面友好、操作简单方便,目前已经较好地应用于高精度光学中心偏测量仪的光学装校工艺过程的控制。
蒋世磊杨国锋张锦孙国斌雷震王三龙
关键词:误差分析
入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响被引量:7
2015年
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图样的形状和周期;入射光的光强不同是降低图形对比度的主要因素.利用402nm波长激光光源进行多光束干涉光刻实验.设定激光器输出功率32mW,每两束光夹角为16°,通过控制曝光、显影工艺,双光束干涉光刻产生周期为1.4μm的光栅、点阵和孔阵结构,三光束干涉光刻产生周期为1.7μm的六边形图形阵列.该模型可为利用干涉光刻技术制备微细周期结构,提高光刻图形质量,提供一定的理论参考.
马丽娜张锦蒋世磊孙国斌杨国锋杭凌侠弥谦计玮
关键词:多光束干涉干涉光刻
ABS材料红外激光打标工艺参数分析被引量:2
2015年
分析激光打标工艺参数对不同颜色基底ABS材料激光打标效果和质量的影响。采用Nd∶YAG1064nm端泵激光打标设备,使用不同功率、频率、焦距等参数,分别对白、粉、红、蓝和黑5种基底颜色的丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)塑料进行红外激光打标,并对打标后材料的微观结构进行了表征。结果表明,不同颜色的ABS材料的打标性能各不相同,ABS材料的基底颜色对激光打标效果影响较大。实验获得了不同基底颜色ABS材料激光打标的工艺参数,为进一步研究提供借鉴。
蒋世磊杨国锋张锦孙国斌
关键词:激光打标ABS工艺参数
基于薄膜损伤阈值测试的聚焦光学系统设计
2025年
为解决聚焦系统因离焦产生的问题,设计了一种薄膜损伤阈值测试的变焦光学系统,通过变焦改变最佳聚焦斑点的尺寸和能量密度的分布,解决了薄膜损伤阈值(LIDT)测试中通过离焦方式的聚焦透镜因激光器能量过高而产生的气爆和“内雕”现象。实验结果表明:所设计的聚焦光学系统,最佳聚焦光斑尺寸可通过变焦调节,随着间距由18.152 mm到6.851 mm,有效聚焦光斑直径由100μm到700μm;光束形态满足高斯分布,激光能量分布符合使用要求,验证了该聚焦光学系统的合理性和有效性,该系统用变焦方式改变焦斑尺寸和能量分布,使最佳聚焦光斑作用于膜系表面,防止在元件内部形成激光损伤,减小薄膜阈值损伤的误判概率,提高了激光损伤阈值测试的准确性,为激光薄膜器件的测试提供了技术支撑。
刘宝怡张强蒋世磊孙国斌杨国锋
关键词:光斑尺寸高斯分布
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