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何金正

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文专利

主题

  • 1篇自扩散
  • 1篇均匀性
  • 1篇开度
  • 1篇工艺过程
  • 1篇出气
  • 1篇长时间

机构

  • 1篇北京七星华创...

作者

  • 1篇李春雷
  • 1篇何金正

年份

  • 1篇2016
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
原子层沉积技术制备薄膜的实现方法
本发明公开了一种原子层沉积技术制备薄膜的实现方法，提出了一种自扩散式ALD技术，利用反应腔室出气阀门的开闭，来控制反应源在反应腔室内的扩散，通过在通入反应源进行工艺过程中减小出气阀门开度或将其关闭，以增加反应腔室内压力，...
李春雷李东旗何金正
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