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王丽华

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：东北微电子研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇国内会议论文

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电路
  • 1篇扫描电子显微...
  • 1篇生产工艺
  • 1篇集成电路
  • 1篇硅膜
  • 1篇二氧化硅膜
  • 1篇SEM
  • 1篇IC

机构

  • 2篇东北微电子研...

作者

  • 2篇王嵩宇
  • 2篇王丽华
  • 1篇张国俊
  • 1篇袁凯
  • 1篇林厚军

传媒

  • 1篇第十二届全国...
  • 1篇第五届全国固...

年份

  • 1篇2003
  • 1篇1996
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
IC SEM剖面分析技术研究
随着半导体工业的迅速发展,集成电路的生产已由大规模进入超大规模阶段,半导体工艺也发展到亚微米的水平.常规光学显微镜的放大倍数上限约为1200倍左右,在这样的放大倍数下,景深已非常小,于是扫描电子显微镜便得到日益广泛的应用...
王嵩宇王丽华袁凯张国俊林厚军
关键词：扫描电子显微镜集成电路
文献传递
LPCVDLTO工艺研究
以热力学与统计物理的理论为基础，对ＬＰＣＶＤＬＴＯ（低温氧化）工艺出现的问题进行了数理分析，从而确定了分子热运动的平均自由程与流量比及淀积压力之间的关系，并用其指导实际工作，从根本上解决反应气流不稳定这一技术难题。
王嵩宇王丽华
关键词：二氧化硅膜生产工艺
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