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李冰

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：北京科华微电子材料有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇浸没式
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻材料
  • 1篇光刻胶

机构

  • 1篇北京科华微电...

作者

  • 1篇穆启道
  • 1篇郑金红
  • 1篇李冰
  • 1篇何鉴

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
193nm浸没式光刻材料的研究进展被引量：3
2008年
介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战。在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述。并对顶部涂料存在的问题进行了阐述。对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体树脂及光刻胶应用方面进行了综述,并重点描述了无须顶部涂层的光刻胶,最后对193 nm浸没式光刻材料发展趋势作了展望。
何鉴高子奇李冰郑金红穆启道
关键词：光刻胶
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共1页<1>
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