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刘亚媚

作品数:7 被引量:9H指数:2
供职机构:赣南师范大学物理与电子信息学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金江西省教育厅资助项目江西省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信电气工程自动化与计算机技术一般工业技术更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇电气工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇导通
  • 2篇电路
  • 2篇晶体管
  • 2篇IGBT
  • 1篇单片
  • 1篇单片功率放大...
  • 1篇单片集成
  • 1篇单片集成电路
  • 1篇导通电阻
  • 1篇导通压降
  • 1篇电荷
  • 1篇电荷补偿
  • 1篇电路研究
  • 1篇电子输运
  • 1篇电子输运特性
  • 1篇电阻
  • 1篇掩膜
  • 1篇输运
  • 1篇输运特性
  • 1篇双极晶体管

机构

  • 7篇赣南师范大学
  • 1篇中国计量大学

作者

  • 7篇袁寿财
  • 7篇刘亚媚
  • 3篇宋力
  • 1篇李孟山
  • 1篇张文
  • 1篇乐江源
  • 1篇韩建强

传媒

  • 3篇赣南师范学院...
  • 2篇电子器件
  • 1篇西南交通大学...
  • 1篇赣南师范大学...

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 1篇2013
  • 1篇2009
  • 2篇2008
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
基于电荷补偿的槽栅IGBT设计和工艺研究
2015年
大功率半导体器件是现代工业和国防进行能量转换及控制的核心器件,也是制约我国电力电子技术水平和竞争力提升的关键器件.本文以降低器件导通电阻和功耗、提高击穿电压为目标研究电荷补偿槽栅IGBT,着重器件结构创新和关键工艺优化.电荷补偿槽栅IGBT导通电阻与器件间隔排列的p、n区半导体层厚及击穿电压成正比,相比传统IGBT导通电阻正比于击穿电压2.5次方理论,同等击穿电压下,允许n区有更高的掺杂浓度,这降低了器件的导通电阻和功耗.采用倾斜角离子注入制作电荷补偿结构,调节注入倾斜角和优化注入剂量是精确控制n区掺杂浓度的有效方法,也是保证器件电参数指标的关键制作工艺.用难熔金属硅化物设计双掩膜版的全自对准制作工艺,系统研究电荷补偿槽栅IGBT工艺制作原理,探索保证器件电参数指标的制作工艺控制机制,提出电荷补偿槽栅IGBT结构和版图设计优化方法和制作工艺参数优化方法.
袁寿财乐江源宋力刘亚媚
关键词:电荷补偿硅化物掩膜漂移区
平面工艺IGBT制作及导通压降的PIN模型计算被引量:1
2009年
以硅平面工艺生产设备为基础,设计制作了基于外延衬底的IGBT器件,器件的实测输出电流-电压特性良好,阈值电压在3.7~4.8V之间.将制作IGBT器件的结构和工艺参数代入PIN二极管模型计算其正向导通压降,并将计算结果与器件的实测参数进行了比较.结果表明:小电流区段符合较好;但大电流区段由于模型简化和测试系统寄生串联电阻的影响出现偏差,对于同一导通电流,计算值比实测值约小8%.
袁寿财刘亚媚
关键词:绝缘栅双极晶体管
碳纳米管阴极场发射平板显示器用高压驱动电路研究被引量:2
2013年
碳纳米管场发射显示器是平板显示器中极具发展潜力的新型显示器件,是在碳纳米管及纳米工艺研究基础上发展起来的.它采用印刷碳纳米管来代替微锥形发射尖端,简化了制作工艺.另外,在碳纳米管平板显示器中,控制系统及驱动电路尤其是阴极高压驱动电路在整个显示系统中占有非常重要的地位,该高压驱动电路的设计优化和制作不但直接影响显示效果,甚至决定着整机的价格,本文结合碳纳米管显示器研制过程中对高压驱动电路的需要,对比分析了已有几种高压驱动电路的结构特点,设计了基于CMOS电路结构的高压驱动电路,电路全部由高压和低压MOSFET组成,从而达到降低功耗、提高速度、并利于实现单片集成的目的.用SPICE电路仿真软件验证所设计电路具有正确的逻辑功能,并对电路结构和器件参数进行优化.在此基础上,通过制作电路板,并实测电路的频率响应符合设计要求.用所制作电路板驱动系统驱动我们制作的5英寸单色碳纳米管阴极场发射平板显示屏,显示效果良好.
袁寿财刘亚媚
关键词:场发射显示器高压驱动电路
CoolMOS导通电阻分析及与VDMOS的比较被引量:4
2008年
为了克服传统功率MOS导通电阻与击穿电压之间的矛盾,提出了一种新的理想器件结构,称为超级结器件或CoolMOS,CoolMOS由一系列的P型和N型半导体薄层交替排列组成。在截止态时,由于p型和n型层中的耗尽区电场产生相互补偿效应,使p型和n型层的掺杂浓度可以做的很高而不会引起器件击穿电压的下降。导通时,这种高浓度的掺杂使器件的导通电阻明显降低。由于CoolMOS的这种独特器件结构,使它的电性能优于传统功率MOS。本文对CoolMOS导通电阻与击穿电压关系的理论计算表明,对CoolMOS横向器件:Ron.A=C.V2B,对纵向器件:Ron.A=C.VB,与纵向DMOS导通电阻与击穿电压之间Ron.A=C.V2B.5的关系相比,CoolMOS的导通电阻降低了约两个数量级。
袁寿财刘亚媚
关键词:COOLMOS导通电阻击穿电压VDMOS
新型薄膜热电变换器的误差分析及其设计制作
2017年
交流电压(流)基准是国家交流电压(流)量值传递中的基准计量器具.首先分析新型薄膜热电变换器的热电转换误差,提出采用微桥谐振器非接触式测量加热电阻温度,属于新型薄膜热电变换器中加热电阻的高灵敏度温度检测方式、减小温度传感器与加热电阻之间的寄生电容、减小因热电效应、寄生电容和介质损耗引起的交直流转换误差,从而具有较高的测温灵敏度.其次研究新型薄膜热电变换器设计制作中的关键工艺,加热电阻辐射的热量使得微机械桥平均温度上升,轴向压应力增加(或拉应力减小),谐振频率减小,通过测量微桥谐振频率的变化获得加热器的温度信息,而温度测量元件从加热电阻汲取的热量极小.这种新型薄膜热电变换器的测量输出量为频率信号,受电路噪声影响很小,因此是一种高计量精度的薄膜热电转换器.
袁寿财韩建强刘亚媚宋力
关键词:谐振器微电子机械系统
基于MOSFET的高频宽带线性单片功率放大器研究
2015年
本文基于功率MOSFET设计高频宽带线性功率放大器单片集成电路,主要针对功率放大器自身功耗和因高频下电路容性负载引起的信号相移及与此有关的功率放大器的效率问题.特别是选用高频功率MOSFET器件,通过电路优化设计使功放的转换速率达到最大,频带宽度达5-135 MHZ,在60 MHZ频率下,放大器的线性度为1 d B增益压缩点,在20-110 MHZ频率范围内,输入功率12 d B时,放大器的平均和最大增益分别为51.8 d B和53.5 d B,放大器的增益稳定性测试表明,频率60 MHZ,输入功率6 d B时,放大器的增益在24 d B-29 d B区间内波动.
袁寿财李孟山张文刘亚媚宋力
关键词:功率MOSFET功率放大器单片集成电路宽带
碳纳米管场效应晶体管电子输运特性的研究被引量:2
2008年
由于硅器件尺寸不断缩小至纳米尺度,人们因此对纳米尺度器件开展了理论与结构方面的广泛而深入的研究,其中最重要的纳米尺度器件是基于碳纳米管的电场效应器件并被称为碳纳米管场效应晶体管(CNTFET)。本文分析了碳纳米管场效应晶体管沟道电子的传输特性,并给出了用器件端子参数描述的器件I-V特性方程表达式,计算了器件的I-V特性曲线并把结果与纳米器件专用分析软件nanoMOS-2.0给出的结果作了比较,发现本文模型的计算结果均大于nanoMOS-2.0给出的结果,表明本文模型尚需进一步的深入分析和优化。
袁寿财刘亚媚
关键词:碳纳米管场效应晶体管量子效应
共1页<1>
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