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胡鹏飞

作品数:7 被引量:31H指数:4
供职机构:西安理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 7篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 5篇溅射
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 4篇电子能
  • 4篇电子能谱
  • 4篇光电子能谱
  • 4篇X射线
  • 4篇X射线光电子...
  • 3篇射线衍射
  • 3篇X射线衍射
  • 2篇原子力显微镜
  • 2篇碳掺杂
  • 2篇
  • 2篇掺杂
  • 1篇刀具
  • 1篇镀层
  • 1篇性能研究
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质涂层
  • 1篇润滑

机构

  • 6篇西安理工大学
  • 1篇洛阳理工学院

作者

  • 7篇胡鹏飞
  • 6篇蒋百灵
  • 5篇李洪涛
  • 2篇张翔
  • 1篇李言
  • 1篇张华
  • 1篇贾贵西
  • 1篇杨超

传媒

  • 2篇功能材料
  • 2篇材料热处理学...
  • 1篇金属热处理
  • 1篇工具技术
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2012
  • 3篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2009
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
刀具硬质涂层的发展现状及展望被引量:4
2009年
综述了刀具用硬质涂层材料的制备方法和种类,并对硬质涂层的应用前景及发展趋势进行了展望。
胡鹏飞张华
关键词:刀具硬质涂层PVDCVD
自润滑Cr/C复合镀层的制备和机械性能研究被引量:5
2010年
采用闭合场非平衡磁控溅射技术,固定碳靶电流参数,调节铬靶电流参数,在GCr15轴承钢球、45#钢和单晶硅基体上制备出自润滑Cr/C复合镀层。用XRD对镀层相结构进行分析,测试了镀层的摩擦系数、磨损率、结合强度、硬度和韧性,用光学显微镜观察镀层磨损形貌。结果表明,镀层相结构为非晶态,随铬靶电流变大逐渐向晶态转变;与未镀层的基体相比,镀层有良好的摩擦磨损性能和载荷承载能力;镀层随铬靶电流增加,硬度逐渐降低,韧性逐渐提高。所获铬电流为0.1和0.3A镀层有很好的自润滑性能,且后者有良好的综合机械性能。
贾贵西李言李洪涛胡鹏飞张翔蒋百灵
关键词:磁控溅射机械性能
基于磁控溅射技术的CrCN镀层中碳元素的存在状态被引量:4
2010年
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层,研究了不同C靶电流CrCN镀层的摩擦系数、碳含量和物相组成,并分析了镀层中碳元素的化学态。结果表明:当C靶电流从0增大到1.5 A时,镀层摩擦系数从0.75降至0.3,随着C靶电流的增大,镀层中碳含量呈非线性增大,增速呈从大到小再到大的变化规律。X射线衍射分析表明,随着C靶电流增大,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电子能谱分析表明,碳元素主要以C-C、C-Cr、C-O键形式存在,且随着C靶电流增大,碳键中C-C键的比例也随之增大。
蒋百灵胡鹏飞李洪涛
关键词:磁控溅射X射线光电子能谱
磁控溅射法制备CrTiAlCN镀层中主要元素的化学态被引量:3
2011年
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrTiAlCN镀层,研究了不同C靶电流CrTiAlCN物相组成,并分析了镀层中主要元素的化学态。X射线衍射分析表明,当C靶电流IC从0增大到2.4 A时,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电子能谱分析表明,碳元素主要以C-C、C-Cr和C-Ti键形式存在;N元素是主要以CrN、Cr2N和TiN的形式存在;Cr元素主要以CrN、Cr2N及CrCx的形式存在。
胡鹏飞蒋百灵李洪涛
关键词:磁控溅射X射线衍射X射线光电子能谱
碳掺杂对CrN镀层显微硬度与组织结构的影响被引量:9
2012年
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层以研究C靶电流对镀层显微硬度的影响,并通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱和透射电镜对镀层进行了分析。结果表明:当C靶电流由0增加到1.5 A时,镀层显微硬度由1930 HV增加到2300 HV,提高约19%,并且镀层的颗粒明显变小;X射线衍射和透射电镜分析表明,随着C靶电流增大,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电子能谱分析表明,镀层碳元素主要以sp2键、sp3键和C-Cr键的形式存在。
胡鹏飞蒋百灵李洪涛
关键词:磁控溅射原子力显微镜X射线衍射X射线光电子能谱
碳靶电流对CrCN镀层摩擦系数的影响被引量:5
2011年
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于单晶硅和M2高速钢基片上制备CrCN镀层以研究C靶电流对CrCN镀层摩擦系数的影响,并通过能谱、原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱分析了C元素的存在状态及其对CrCN镀层组织结构的影响规律。结果表明,当碳靶电流Ic从0A增大到1.5A时,镀层摩擦系数从0.75降至0.3,镀层中碳含量也随之增大,镀层表面晶粒直径变小,粗糙度也明显变小,Ic=1.5A时镀层表面粗糙度仅为Ic=0A时的7.4%。X射线光电子能谱分析表明,镀层中碳元素主要以C—C、C—Cr、C—O键形式存在,其中以C—C键形式存在的自由碳,能起到固体润滑的作用,可显著减低镀层的摩擦系数。
胡鹏飞蒋百灵李洪涛
关键词:磁控溅射原子力显微镜X射线衍射X射线光电子能谱
碳掺杂对CrTiAlN镀层显微组织和摩擦系数的影响被引量:6
2011年
采用磁控溅射技术在高速钢和单晶硅基体制备了不同碳含量的CrTiAlCN复合镀层,利用XRD、XPS、SEM分析了镀层的相结构、元素存在状态及截面显微形貌,通过销-盘式摩擦磨损试验机研究了镀层的摩擦系数。结果表明,镀层主要由CrN结构的化合物相组成;随着碳含量的增加,镀层中的sp2碳键含量增加,镀层逐渐开始非晶化,镀层更加致密。镀层的摩擦系数随碳含量的增加而下降,当碳含量为50.47 at%时,镀层摩擦系数降至0.1。
张翔蒋百灵杨超胡鹏飞
关键词:碳含量显微组织
共1页<1>
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