栗磊
- 作品数：4 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国科学院过程工程研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：化学工程更多>>
- 三价铬高速电镀过程优化
- 针对三价铬电镀速率慢的问题,研究了镀液主要添加组分和镀液流动对三价铬高速电镀的影响规律.结果表明,通过对镀液络合剂和缓冲剂浓度的调整,可以优化三价铬活性络合物的生成,显著提高铬电镀速率,可达到1.2 μm min-1.另...
- 刘洋王明涌栗磊王志
- 关键词：三价铬
- 文献传递
- 三价铬高速电镀过程优化
- 针对三价铬电镀速率慢的问题,研究了镀液主要添加组分和镀液流动对三价铬高速电镀的影响规律。结果表明,通过对镀液络合剂和缓冲剂浓度的调整,可以优化三价铬活性络合物的生成,显著提高铬电镀速率,可达到1.2μmmin-1。另外随...
- 刘洋王明涌栗磊王志
- 关键词：三价铬电镀
- 三价铬隔膜电镀方法
- 一种三价铬隔膜电镀方法，属于电镀技术领域。工艺步骤为：用离子交换膜将电镀槽室分隔为阴极室和阳极室两部分；在阴极室中注入三价铬镀液，在阳极室中注入酸性或中性电解液，然后进行三价铬电镀；可以消除三价铬电镀过程在阳极上析出氯气...
- 王明涌王志栗磊刘玲张懿
- 文献传递
- 三价铬镀液组分的存在形式及其对电镀的影响规律被引量：1
- 2016年
- 通过理论计算和电镀实验研究镀液核心组分存在形式及其对铬电镀的影响规律。结果表明:络合剂脲或甲酸98%以上是以分子形式与Cr(Ⅲ)离子形成三价铬活性络合物。根据三价铬络合物平衡构象图发现:相比于CrL^(3+),Cr(OH)L^(2+)更高的电化学活性归因于较大的水分子-中心铬离子距离。通过增加三价铬活性络合物浓度,能显著提高铬电镀速率,可高达1.2μm/min;缓冲剂硼酸主要以B(OH)3的形式存在,最佳p H缓冲范围为8~10,而Al^(3+)最佳的p H缓冲范围为3~3.5。加入0.6 mol/L Al^(3+)使铬镀层边缘和中心厚度之比(hcorner/hcenter)从11降低至2;而加入1 mol/L硼酸仅使hcorner/hcenter从5降低至3,Al^(3+)改善镀层均匀性的作用更为明显。
- 刘洋王明涌栗磊王志
