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张成山

作品数:8 被引量:8H指数:1
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家重大科学仪器设备开发专项更多>>
相关领域:自动化与计算机技术电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇光栅
  • 5篇光栅刻划
  • 3篇光栅刻划机
  • 2篇刀架
  • 2篇顶针
  • 2篇顶柱
  • 2篇对称型
  • 2篇球面
  • 2篇小刀
  • 2篇力臂
  • 2篇莫尔条纹
  • 2篇金刚石
  • 2篇刻刀
  • 2篇光谱
  • 2篇刚石
  • 2篇触点
  • 1篇衍射
  • 1篇衍射光栅
  • 1篇仪器
  • 1篇设计方法

机构

  • 8篇中国科学院长...
  • 1篇北方信息控制...

作者

  • 8篇张成山
  • 7篇巴音贺希格
  • 4篇高键翔
  • 3篇李文昊
  • 3篇齐向东
  • 2篇崔继承
  • 2篇李英海
  • 2篇王丽娟
  • 1篇于宏柱
  • 1篇张方程
  • 1篇谭鑫
  • 1篇冯树龙
  • 1篇唐玉国
  • 1篇王长庚
  • 1篇甘泽龙
  • 1篇段佩华

传媒

  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇长春工业大学...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 2篇2006
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
一种弹性顶针式多功能光栅刻划刀刀架
一种弹性顶针式多功能光栅刻划刀刀架,属于光谱技术领域中涉及的一种光栅刻划刀刀架。本发明要解决的技术问题是:提供一种弹性顶针式多功能光栅刻划刀刀架。解决的技术方案是:包括主刀架、副刀架、卡块、抬刀架、金刚石刻刀、球面顶针、...
高键翔巴音贺希格张成山李英海
文献传递
一种采用复制技术制作非球面光栅的方法
一种采用复制技术制作非球面光栅的方法,属于光谱光栅技术领域中涉及的制作非球面光栅的方法。要解决的技术问题是:提供一种采用复制技术制作非球面光栅的方法。解决的技术方案为:第一步、母板非球面光栅的选择;第二步、基底的选择,包...
李文昊齐向东巴音贺希格张成山崔继承
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一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥
一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥,属于光谱技术领域中涉及的一种光栅刻划机刀桥,本发明要解决的技术问题是;提供一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥。解决的技术方案是:包括刀桥、导轨、刀桥承重触点、导向力...
高键翔巴音贺希格张成山
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一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥
一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥,属于光谱技术领域中涉及的一种光栅刻划机刀桥,本发明要解决的技术问题是:提供一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥。解决的技术方案是:包括刀桥、导轨、刀桥承重触点、导向力...
高键翔巴音贺希格张成山
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一种弹性顶针式多功能光栅刻划刀刀架
一种弹性顶针式多功能光栅刻划刀刀架,属于光谱技术领域中涉及的一种光栅刻划刀刀架。本发明要解决的技术问题是:提供一种弹性顶针式多功能光栅刻划刀刀架。解决的技术方案是:包括主刀架、副刀架、卡块、抬刀架、金刚石刻刀、球面顶针、...
高键翔巴音贺希格张成山李英海
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莫尔条纹法精确控制全息光栅光栅常数的研究被引量:8
2013年
为精确控制全息光栅的光栅常数,提高全息光栅的制作精度,提出了莫尔条纹法控制光栅常数的方法,建立光栅常数随莫尔条纹宽度变化的数学模型,分别讨论了不同莫尔条纹宽度对光栅常数的影响。通过检验莫尔条纹宽度,实现对干涉场条纹间距的检验,可以提高全息光栅光栅常数的控制精度。实验结果表明,对于制作3 600 lines/mm全息光栅,其刻线密度控制精度可以达到±0.05 lines/mm。该模型正确反映了光栅常数随莫尔条纹宽度的演化规律,采用基准光栅结合莫尔条纹精确控制全息光栅光栅常数的方法能够满足全息光栅的制作要求,为全息光栅曝光系统的设计提供理论指导和设计方法。
李文昊张成山巴音贺希格齐向东王丽娟
关键词:全息光栅莫尔条纹光栅常数
平面全息离子束刻蚀光栅研制
唐玉国巴音贺希格齐向东李文昊谭鑫于宏柱甘泽龙崔继承冯树龙张方程王长庚王丽娟张成山段佩华丁东
该项目通过理论创新、工艺创新、技术攻关与关键设备研制,完善了基于电磁场理论的平面全息光栅设计方法,建立起覆盖全工艺过程的平面全息光栅研发及检测系统,设计并研发了9种行业急需的平面全息光栅,建立了光栅企业标准,修改完善了光...
关键词:
关键词:光栅设计方法光谱仪器
光电式光栅刻划机干涉控制系统及精度分析
2014年
采用莫尔条纹法对光栅干涉仪在工作过程中产生的干涉条纹进行分析,利用莫尔条纹的平均误差作用减少光栅刻划过程中的局部误差。实验研究表明,该方法控制光栅刻划机刻划出300l/mm和600l/mm的光栅,受环境影响小、结构简单且装调方便。
张成山孟庆孔
关键词:莫尔条纹
共1页<1>
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