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刘璐
作品数:
2
被引量:1
H指数:1
供职机构:
常熟理工学院物理与电子工程学院
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相关领域:
理学
机械工程
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合作作者
张涛
常熟理工学院物理与电子工程学院
王斌
常熟理工学院物理与电子工程学院
侯海虹
常熟理工学院物理与电子工程学院
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磁控溅射
机构
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常熟理工学院
作者
2篇
侯海虹
2篇
王斌
2篇
张涛
2篇
刘璐
传媒
1篇
光学学报
年份
2篇
2015
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2
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退火时间对AZO薄膜结构及光学性质的影响
被引量:1
2015年
采用直流磁控溅射方法,以K9玻璃为衬底制备掺铝氧化锌(ZnO2Al,AZO)薄膜。在300℃真空条件下对样品进行退火处理,研究不同退火时间对薄膜内部微观结构、表面形貌及光学特性的影响。结果表明,最佳退火时间为2h,此条件下的AZO薄膜具有较强的(002)衍射峰,晶粒尺寸为17.2nm,表面结构平整致密,紫外一可见波段的平均透射率为93.47%,光学带隙为3.41eV。
侯海虹
张涛
王斌
刘璐
关键词:
AZO薄膜
磁控溅射
表面形貌
退火时间对AZO薄膜结构及光学性质的影响
采用直流磁控溅射方法,以K9 玻璃为衬底制备掺铝氧化锌(ZnO∶Al,AZO)薄膜.在300 ℃真空条件下对样品进行退火处理,研究不同退火时间对薄膜内部微观结构、表面形貌及光学特性的影响.结果表明,最佳退火时间为2 h,...
侯海虹
张涛
王斌
刘璐
关键词:
AZO薄膜
表面形貌
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