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孙景文

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：东南大学更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 2篇形状记忆
  • 2篇形状记忆合金
  • 2篇铁磁
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  • 2篇记忆合金
  • 2篇合金
  • 2篇磁形状记忆合...
  • 1篇形貌
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  • 1篇薄膜形貌
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  • 1篇MEMS
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁致应变
  • 1篇M

机构

  • 1篇东南大学
  • 1篇江苏大学

作者

  • 2篇孙景文
  • 1篇李长生
  • 1篇李俊茂
  • 1篇姚固文
  • 1篇姜春华

传媒

  • 1篇材料导报

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的研究进展被引量：2
2006年
以Ni-Mn-Ga为主要代表的铁磁形状记忆合金(FSMAs)不但具有传统形状记忆合金受温度控制的热弹性形状记忆效应,而且具有受磁场控制的铁磁形状记忆效应。微机电系统(MEMS)的应用要求Ni-Mn-Ga合金必须制备成薄膜的形式。对溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的制备工艺进行了回顾与总结,对薄膜的各种性能特征和影响因素进行了详细的叙述,最后介绍了溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的应用状况和应用趋势。
孙景文李长生李俊茂姚固文姜春华
关键词：磁控溅射铁磁形状记忆合金MEMS
铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的制备和特性研究
铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga是一种新型的智能材料，最突出的应用功能在于它的马氏体变体可以由外加磁场驱动重新排列而显示出类似于磁致伸缩效应的宏观应变。由于Ni-Mn-Ga合金块体材料的高脆性，很难切割成较小的块，这限制...
孙景文
关键词：铁磁形状记忆合金薄膜形貌磁致应变
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