曹振
- 作品数：13 被引量：24H指数：3
- 供职机构：北京理工大学更多>>
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- 相关领域：电子电信机械工程更多>>
- 一种组合放大倍率的成像物镜系统设计方法
- 本发明提供一种组合放大倍率的成像物镜系统设计方法，具体过程为：步骤一，设计共轴、放大倍率为M的全球面成像物镜系统A；步骤二，以系统A中各反射镜曲率为优化变量，将所述系统A优化为放大倍率为N的系统B；步骤三，将系统A中各反...
- 李艳秋刘岩曹振
- 文献传递
- 一种折反式深紫外光刻物镜设计方法
- 本发明提供一种深紫外光刻物镜设计方法，具体过程为：步骤一、确定置于掩模和硅片之间的深紫外光刻物镜三个镜组的初始结构；步骤二、优化物方镜组G1的初始结构，使其满足设计要求：(1)物方远心，(2)像方主光线入射角和放大倍率M...
- 李艳秋曹振
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- 一种离轴无遮拦极紫外投影光刻物镜
- 本发明公开了一种离轴无遮拦极紫外投影光刻物镜，通过对第五反射镜和第六反射镜进行旋转和倾斜，使得第五反射镜和第六反射镜可以无遮拦的将中间像成像于本极紫外投影光刻物镜的像面上，因此可以克服因增大系统数值孔径NA后，第五反射镜...
- 李艳秋刘岩刘菲曹振
- 文献传递
- 一种极紫外投影光刻物镜
- 本发明提供一种极紫外投影光刻物镜，其为六反射镜结构，将第一反射镜M1、圆形光阑、第二反射镜M2、第三反射镜M3和第四反射镜M4设为第一镜组，将第五反射镜M5和第六反射镜M6设为第二镜组；第一镜组用于将物面成中间像于第五反...
- 李艳秋曹振刘菲
- 16～22nm极紫外光刻物镜工程化设计被引量：14
- 2013年
- 极紫外光刻是16～22nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26mm×1.5mm的极紫外光刻投影物镜。详细分析和比较了两套物镜的光学性能和可制造性。结果表明,两套物镜结合分辨率增强技术可分别满足22nm和16nm光刻技术节点的性能要求。
- 曹振李艳秋刘菲
- 关键词：光学设计投影物镜极紫外光刻
- 一种极紫外投影光刻物镜
- 本发明提供一种极紫外投影光刻物镜，其为六反射镜结构，将第一反射镜M1、圆形光阑、第二反射镜M2、第三反射镜M3和第四反射镜M4设为第一镜组，将第五反射镜M5和第六反射镜M6设为第二镜组；第一镜组用于将物面成中间像于第五反...
- 李艳秋曹振刘菲
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- 超大数值孔径极紫外光刻物镜的公差分析被引量：3
- 2015年
- 超大数值孔径极紫外光刻物镜(NA>0.45)能够满足11 nm光刻技术节点的需求,而高分辨率成像对物镜系统的公差要求非常严格。针对一套数值孔径为0.50的极紫外投影物镜进行了补偿器选择和制造公差分析。通过对系统敏感元件结构参量构成的灵敏度矩阵进行奇异值分解(SVD)来选择像质补偿器。物镜系统的结构参量数目较多,而奇异值分解法要求灵敏度矩阵中结构参量数不多于像差数。为了满足奇异值分解法的要求,首先确定系统的敏感元件并选择敏感元件对应的结构参量构造灵敏度矩阵。再通过对该灵敏度矩阵进行奇异值分解确定有效的补偿器组合,从而弥补公差造成的像质恶化。采用上述方法确定了8个补偿器,并利用CODE V软件进行了公差分配。结果表明,系统波像差均方根值在97.7%的置信概率下小于0.5 nm,且最严公差控制在微米及微弧度量级。
- 孙圆圆李艳秋曹振
- 关键词：光学设计公差分析极紫外光刻
- 近红外大数值孔径平场显微物镜设计被引量：6
- 2017年
- 为满足飞秒激光微纳加工系统对高加工精度和大加工范围的需求,首先确定了该系统的重要组成部分-无限共轭距显微物镜所需具备的特性及设计指标。依据薄透镜组的初级像差理论,针对飞秒激光波长推导出光学系统为校正匹兹凡场曲和二级光谱所需满足的条件。该镜头由11片球面透镜构成,所选用材料皆为国产玻璃,同时避免三胶合结构的使用。设计了一套工作波长为785~815 nm,数值孔径为0.9,像方视场为22.5 mm,放大倍率为40×的近红外平场复消色差显微物镜。设计结果表明:该镜头的MTF良好,全视场波像差均小于0.08λ,各种几何像差均远小于公差且满足平场和复消色差条件,能量集中度高。使用补偿器放松材料公差、加工公差和装调公差,公差分配后全视场RMS波像差小于0.09λ,满足实际应用要求。
- 周恩源刘丽辉刘岩曹振
- 关键词：光学设计显微物镜飞秒激光微纳加工
- 一种组合放大倍率的成像物镜系统设计方法
- 本发明提供一种组合放大倍率的成像物镜系统设计方法，具体过程为：步骤一，设计共轴、放大倍率为M的全球面成像物镜系统A；步骤二，以系统A中各反射镜曲率为优化变量，将所述系统A优化为放大倍率为N的系统B；步骤三，将系统A中各反...
- 李艳秋刘岩曹振
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- 一种折反式深紫外光刻物镜设计方法
- 本发明提供一种深紫外光刻物镜设计方法，具体过程为：步骤一、确定置于掩模和硅片之间的深紫外光刻物镜三个镜组的初始结构；步骤二、优化物方镜组G1的初始结构，使其满足设计要求：(1)物方远心，(2)像方主光线入射角和放大倍率M...
- 李艳秋曹振
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