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唐拓

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：东北微电子研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇线宽
  • 1篇精度控制
  • 1篇光刻

机构

  • 1篇东北微电子研...

作者

  • 1篇姜立娟
  • 1篇唐拓
  • 1篇李响

传媒

  • 1篇微处理机

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
光刻线宽精度控制的研究被引量：5
2005年
本文通过对涂胶、曝光等影响线宽参数的工艺进行实验,制定了一套工艺规范,使光刻线宽控制在±1 0 %以内。
姜立娟李响唐拓
关键词：光刻线宽
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共1页<1>
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