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机构

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作者

  • 1篇代学芳
  • 1篇刘国栋
  • 1篇刘彩池
  • 1篇李英
  • 1篇刘何燕
  • 1篇李彦如

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2016
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
Ga空位对GaN:Gd体系磁性影响的第一性原理研究被引量:2
2016年
采用基于密度泛函理论的第一性原理结合投影缀加平面波的方法,研究了GaN中Ga被稀土元素Gd替代以及与邻近N或Ga空位组成的缺陷复合体的晶格常数、磁矩、形成能以及电子结构等性质.结果发现,Gd掺杂GaN后禁带宽度变窄,由直接带隙半导体转为间接带隙半导体;单个Gd原子掺杂给体系引入大约7μB的磁矩;在Gd与Ga或N空位形成的缺陷复合体系中,N空位对引入磁矩贡献很小,大约0.1μB,Ga空位能引入约2μB的磁矩.随着Ga空位的增多,体系总磁矩增加,但增加量与Ga空位的位置分布密切相关.当Ga空位分布较为稀疏时,Gd单原子磁矩受影响较小,但当Ga空位距离较近且倾向于形成团簇时,Gd单原子磁矩明显增加,而且这种情况下空位形成能也最小.
侯振桃李彦如刘何燕代学芳刘国栋刘彩池李英
关键词:GAN稀土掺杂电子结构磁学性质
共1页<1>
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